[发明专利]光记录介质用半透明反射膜和反射膜、以及用于形成这些半透明反射膜和反射膜的Ag合金溅射靶有效
| 申请号： | 201010289035.3 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101942644A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 小见山昌三;山口刚;三岛昭史 | 申请（专利权）人： | 三菱麻铁里亚尔株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;C22C5/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 半透明 反射 以及 用于 形成 这些 ag 合金 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.光记录介质的半透明反射膜，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
2.光记录介质的半透明反射膜，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、进而含有Pr、Ce和Sm中的1种或者2种以上与Eu的合计为大于0.2质量％而在1质量％以下、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
3.光记录介质的半透明反射膜形成用Ag合金溅射靶，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
4.光记录介质的半透明反射膜形成用Ag合金溅射靶，其特征在于，包含银合金，该银合金具有含有0.05～1质量％的Mg、0.2～0.5质量％的Eu、进而含有Pr、Ce和Sm中的1种或者2种以上与Eu的合计为大于0.2质量％而在1质量％以下、余量包含Ag和不可避免杂质的组成。
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