[发明专利]有机EL用掩模清洗方法、有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及对有机EL用掩模扫描激光、进行清洗的有机EL用掩模清洗方法，有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置。 

背景技术

作为不需要背光灯的低消耗电力、轻量薄型的图像显示装置多利用有机EL(Electro Luminesence，电致发光)显示器。作为其结构，在透明性的玻璃基板上层叠有机EL薄膜层，有机EL薄膜层采用由空穴注入层、空穴输送层、电子注入层、电子输送层及阳极层和阴极层夹入发光层的结构。发光层大多使用在玻璃基板上蒸镀有机材料而作为薄膜形成的层，将构成显示器的各像素的区域分割为3份并蒸镀RGB三色的有机材料。因此，为了在各像素的三个区域蒸镀不同颜色的有机材料(有机色素材料)而使用形成有多个开口部的有机EL用掩模(阴影掩模)进行蒸镀。在该有机EL用掩模上一个一个像素间距量地移动的同时蒸镀各色有机材料，由此结束发光层的蒸镀工艺。 

在进行蒸镀工艺时，不仅在玻璃基板上，而且在有机EL用掩模上也附着有机材料。有机EL用掩模不是仅在一次蒸镀工艺中使用，而是重复使用，因此，进行下面的蒸镀工艺时在有机EL用掩模上附着有机材料时，在新的玻璃基板上附着了的有机材料转印而污损。另外，在有机EL用掩模上形成的多个开口部的边缘部分也蒸镀有机材料，将开口部的面积部分或全部堵塞。不用说堵塞了全部开口部的情况，即使部分堵塞也成为蒸镀时的障碍(影子或阴影)，使用该有机EL用掩模时的蒸镀精度显著下降，另外不耐使用。因此，定期地(优选，结束一个蒸镀工艺后)清洗有机EL用掩模，进行有机材料的除去。 

作为有机EL用掩模的清洗主要进行的是使用使有机物溶解的清洗 液、或使用了界面活性剂等的湿式清洗。湿式清洗为对有机EL用掩模供给液体而进行的清洗。但是，清洗的有机EL用掩模为微米级(10～50μm程度)的极薄的金属板，在湿式清洗时因作用用于液压或促进清洗的超声波和加热而对有机EL用掩模造成偏斜或变形等大的损害。另外，使用界面活性剂等药液进行湿式清洗时，需要药液供给机构及处理使用完的药液(排放液)的排放液处理机构，因此机构复杂，另外，也存在排放液造成的环境污染的问题。另外，近几年，有机EL用掩模大型化，该情况下大量使用清洗液，运行成本也增大。 

另一方面，作为不使用湿式清洗的清洗，专利文献1公示有涉及对有机EL用掩模照射激光进行的清洗(激光清洗)的技术。通过对金属材料的有机EL用掩模照射激光，在有机EL用掩模和有机材料之间作用剥离力。专利文献1的技术为通过该剥离力从有机EL用掩模除去有机材料来进行清洗的技术。而且，在有机EL用掩模上粘贴粘着性的薄膜，使剥离的有机材料转印于粘着的薄膜上，由此进行清洗工艺。 

专利文献1：(日本)特开2006-169573号公报 

在专利文献1公示的技术中，向有机EL用掩模(蒸镀掩模)照射激光，引起附着了有机材料(堆积物)的面的运动，由此进行有机材料的剥离。激光最初入射到有机材料层，透过该层入射到有机EL用掩模。 

由于有机EL用掩模重复使用，因此，必须不发生偏斜乃至翘曲等变形。当对有机EL用掩模造成损害、产生不能恢复原来的状态的程度的变形时，不能正确地进行使用该有机EL用掩模的蒸镀。因此，在下面的蒸镀工艺中有机EL用掩模不能再利用。对有机EL用掩模照射激光时，激光照射了的部位及其附近局部温度上升。此时，当极端地温度上升时，给予有机EL用掩模2不能恢复为原来的状态的程度的损害。 

发明内容

因此，本发明的目的是在使用激光除去附着于有机EL用掩模的有机材料时，对有机EL用掩模不会产生不能复原的损害，获得高的清洁度。 

为解决所述课题，本发明第一方面的有机EL用掩模清洗方法，其 在附着了有机材料的有机EL用掩模的表面扫描激光而除去所述有机材料，其特征在于，照射如下的激光：在透过所述有机材料地使所述激光照射到所述有机EL用掩模时，将所述有机材料维持在固态，且所述有机EL用掩模在照射后不变形的激光。 

根据该有机EL用掩模清洗方法，即使透过有机材料地照射了激光，有机材料也维持固态，且有机EL用掩模不会变形。由此，在进行激光清洗时，对有机EL用掩模不会产生不能复原的损害，能够获得高的清洁度。 

本发明第二方面的有机EL用掩模清洗方法，在本发明第一方面的有机EL用掩模清洗方法的基础上，其特征为，通过照射所述激光，使所述有机材料和所述有机EL用掩模具有由温度差引起的热膨胀差，由此，对层间作用剥离力，进行所述有机材料的除去。