[发明专利]铈系研磨剂有效
| 申请号： | 201010238216.3 | 申请日： | 2004-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN101885959A | 公开（公告）日： | 2010-11-17 |
| 发明（设计）人： | 茅根环司;宫冈清二 | 申请（专利权）人： | 日立化成工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨剂 | ||
【权利要求书】：
1.铈系研磨剂，其为将含有氧化铈的粒子的组合物分散于水中而得到的铈系研磨剂，其特征是，在6当量浓度的硝酸12.5g与30％过氧化氢溶液12.5g的混合液中溶解20g时，溶液中存在的不溶成分的浓度的质量比是10ppm以下。
2.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，所述不溶成分的浓度的质量比是5ppm以下。
3.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，所述不溶成分的浓度的质量比是1ppm以下。
4.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，所述不溶成分的浓度的质量比是0.1ppm以下。
5.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，进一步含有分散剂。
6.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，分散剂的重均分子量为100～50000。
7.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，pH值为3～9。
8.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，pH值为5～8。
9.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，进一步含有高分子添加剂。
10.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，铈系研磨剂中的氧化铈粒子的二次粒子粒径的中间值为0.01-1.0μm。
11.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，铈系研磨剂中的氧化铈粒子的浓度为0.5～20质量％。
12.如权利要求1所述的铈系研磨剂，其特征是，用于氧化硅膜的研磨。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成工业株式会社，未经日立化成工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010238216.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：基因修饰微生物及以此微生物生产衣康酸的方法
- 下一篇：音频信号处理
