[发明专利]扩散片及其制造方法、背光以及液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 201010193315.4 申请日: 2010-06-01
公开(公告)号: CN101907734A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 柴田章广;佐佐木纯;对木洋文;堀井明宏;平井基介;水野裕;浅冈聪子;桥本香奈子;工藤泰之;林沙织;宫内贞一;关野智之;青木诚 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02F1/13357
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 扩散 及其 制造 方法 背光 以及 液晶 显示装置
【权利要求书】:

1.一种扩散片,包括:

具有第一主表面和第二主表面的基体;以及

在所述基体的第一主表面或第二主表面上随机形成的凸状结构体,

所述结构体具有相同的高度或几乎相同的高度,

所述结构体的纵横比h/r大于0.85且小于等于1.50,其中,r是结构体的平均半径,h是结构体的平均高度,

所述结构体的填充率大于等于60%且小于等于80%。

2.一种扩散片,包括:

具有第一主表面和第二主表面的基体;以及

在所述基体的第一主表面或第二主表面随机形成的凸状结构体,

所述结构体具有相同的高度或几乎相同的高度,

所述结构体的纵横比h/r大于0.50且小于等于1.50,其中,r是结构体的平均半径,h是结构体的平均高度,

所述结构体的填充率大于等于60%且小于等于80%。

3.根据权利要求1或2所述的扩散片,其中,所述结构体的高度与所述结构体的平均高度的偏差小于等于10%。

4.根据权利要求1或2所述的扩散片,其中,所述结构体具有部分球面形状。

5.根据权利要求4所述的扩散片,其中,

所述结构体具有圆形的底面,

所述圆形的底面的平均直径大于等于50μm且小于等于100μm。

6.根据权利要求4所述的扩散片,其中,

所述结构体具有圆形的底面,

所述圆形的底面的平均直径大于等于20μm且小于等于50μm。

7.根据权利要求1或2所述的扩散片,其中,

所述结构体包括:

具有部分球面形状的主体部;以及

从所述主体部的底面向着所述基体延伸的基底部。

8.根据权利要求7所述的扩散片,其中,所述基底部的平均长度1为0<1≤20μm。

9.根据权利要求1或2所述的扩散片,其中,与所述基体的第一主表面或第二主表面交界附近的所述结构体的平均侧面角度大于等于65度且小于等于90度。

10.根据权利要求1或2所述的扩散片,其中,

所述结构体与所述基体一体成形,

所述结构体与所述基体含有相同的热可塑性树脂。

11.一种背光,包括:

一个或多个光源;以及

一张或多张扩散片,

所述扩散片包括:

具有第一主表面和第二主表面的基体;以及

在所述基体的第一主表面或第二主表面上随机形成的凸状结构体,

所述结构体具有相同的高度或几乎相同的高度,

所述结构体的纵横比h/r大于0.85且小于等于1.50,

其中,r是结构体的平均半径,h是结构体的平均高度,

所述结构体的填充率大于等于60%且小于等于80%。

12.一种背光,包括:

一个或多个光源;以及

多张光学片,

所述多张光学片包括至少一张扩散片,

所述扩散片包括:

具有第一主表面和第二主表面的基体;以及

在所述基体的第一主表面或第二主表面上随机形成的凸状结构体,

所述结构体具有相同的高度或几乎相同的高度,

所述结构体的纵横比h/r大于0.50且小于等于1.50,

其中,r是结构体的平均半径,h是结构体的平均高度,

所述结构体的填充率大于等于60%且小于等于80%。

13.根据权利要求12所述的背光,其中,在三张以上的所述扩散片之中,设置在离所述光源最远处的扩散片的纵横比在三张以上的所述扩散片中为最大。

14.一种液晶显示装置,包括权利要求11至13中任一项所述的背光。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010193315.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top