[发明专利]吸附检测解除方法、处理装置及计算机能读取的存储介质

说明书

技术领域

本发明涉及用于检测玻璃基板等基板是否吸附在载置台上并解除该吸附的吸附检测解除方法、能够执行该吸附检测解除方法的处理装置、以及存储有使处理装置执行上述吸附检测解除方法的程序的、计算机能读取的存储介质。

背景技术

在制造液晶显示器时，为了在玻璃基板上形成电元件，可采用干蚀刻装置等等离子处理装置。等离子处理装置包括用于载置基板的载置台，该载置台的表面为了防止等离子体的异常放电而被阳极氧化膜等绝缘物包覆。

在由绝缘物包覆的载置台上对作为绝缘物的玻璃基板进行等离子处理的情况下，基板、载置台表面带电，两者有可能互相吸附。在两者互相吸附时，若为了搬出基板而驱动升降销，则在吸附力较强的情况下，会无法抬起基板而使基板被破坏。

因此，在专利文献1中记载有这样的基板处理方法，即，在用升降销推起基板时，对与基板对载置台的静电吸附力相关的数据进行检测，在静电吸附力为规定值以上的情况下，限制升降销的推起动作。

在专利文献2中还记载有这样的基板卸下控制方法，即，在静电吸附力较强的情况下，向基板与载置台之间供给导热气体，利用升降销的推起力和导热气体的压力抬起基板。

在专利文献3中还记载有这样的试样脱离方法，即，在成膜或者蚀刻处理之后使试样脱离试样保持部的情况下，将氩、氦等气体均等地付与试样下表面的大部分部位而作为抬起力施力，之后，照射等离子体而放出积蓄在试样中的电荷。在残留吸附力小于气体压力的时刻，试样脱离试样保持部。

专利文献1：日本特开平11-260897号公报

专利文献2：日本特开2000-200825号公报

专利文献3：日本特开平7-130825号公报

玻璃基板的薄膜化、大型化正在得到发展。因此，像专利文献1、2那样，在根据对升降销施加的压力判定静电吸附力的强度的方式中，无论基板与载置台之间是否作用有静电吸附力，都会驱动升降销，因此，玻璃基板破损的可能性升高。

专利文献3仅记载试样的脱离方法，未判定试样和试样保持部是否吸附。

另外，专利文献3所述的脱离方法将气体压力提升直到试样脱离试样保持部。因此，在试样为像玻璃基板那样容易破损的材质的情况下，若试样牢固地吸附于试样保持部，则试样有可能在脱离试样保持部之前破损。

发明内容

本发明即是鉴于上述情况而做成的，其目的在于提供在减小基板破损的可能性的同时、检测基板是否吸附在载置台上并解除该吸附的吸附检测解除方法、能够执行该吸附检测解除方法的处理装置、以及存储有能够使处理装置执行上述吸附检测解除方法的程序的、计算机能够读取的存储介质。

为了解决上述课题，本发明的第1形态的吸附检测解除方法在使被处理体脱离用于载置上述被处理体的载置台之前检测上述被处理体是否吸附在上述载置台上，在吸附的情况下解除吸附，其中，包括以下工序：(1)以规定的吸附判定压力自上述载置台的载置面向上述被处理体的背面供给流体；(2)检测从以上述吸附判定压力开始供给流体起经过了规定的吸附判定时间时上述流体的流量；(3)判定在上述(2)工序中检测出的上述流体的流量是否为规定的吸附判定流量以下；(4)根据上述(3)工序中的判定结果，在上述流体的流量为上述吸附判定流量以下的情况下，使向上述被处理体的背面供给流体的压力为比上述吸附判定压力高的吸附解除压力。

另外，本发明的第2形态的处理装置包括：载置台，其用于载置被处理体；升降销，其能够从上述载置台的载置面上突出或没入，用于使上述基板在上述载置台的载置面上方升降；多个气体孔，其设置在上述载置台的载置面上；气体供给管，其连接于上述多个气体孔；气体供给机构，其用于向上述气体供给管中供给气体；压力调整机构，其设置于上述气体供给管，用于调整向上述气体供给管供给的气体流量，使得上述气体供给管内的压力成为设定好的压力；控制机构，控制上述压力调整机构及上述升降销中的至少一个，从而执行上述第1形态的吸附检测解除方法。

另外，本发明的第3形态的计算机能够读取的存储介质在计算机中工作，存储有控制处理装置的控制程序，其中，上述控制程序在被执行时控制上述处理装置，从而进行上述第1形态的吸附检测解除方法。

采用本发明，能够提供在减小基板破损的可能性的同时、检测基板是否吸附在载置台上并解除该吸附的吸附检测解除方法、能够执行该吸附检测解除方法的处理装置、以及存储有能够使处理装置执行上述吸附检测解除方法的程序的、计算机能够读取的存储介质。

附图说明