[发明专利]一种用于薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构无效

专利信息
申请号: 201010191142.2 申请日: 2010-06-03
公开(公告)号: CN102270672A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 刘成;周丽华;叶晓军;钱子勍;张翼翔;陈鸣波 申请(专利权)人: 上海空间电源研究所
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 上海航天局专利中心 31107 代理人: 金家山
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 薄膜 太阳能电池 多层 反射 结构
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池的设计,特别涉及薄膜太阳能电池的多层光学反射镜结构。

背景技术

在薄膜太阳能电池,尤其是硅基(非晶硅、微晶硅、纳米硅、非晶硅锗等)太阳能电池中,均采用背反射镜结构增强光发射,使得更多的光子流被电池的有源层吸收,从而提高太阳能电池的短路电流。目前最常用的背反射镜结构为Ag/ZnO或Al/ZnO。着眼于光子流的更高效利用,国际上研究者们提出在电池背面构筑光子晶体衍射光栅、多层周期性反射结构的设想,以进一步提高太阳能电池的短路电流和光电转换效率。

多层周期性背反射镜由高、低折射率材料交替组成,常应用于垂直腔面发射激光器、垂直腔光电探测器等领域。应用于太阳能电池的结构,目前没有发现同本发明类似技术的说明或报道,也尚未收集到国内外类似的资料。

发明内容

本发明的目的在于着眼于光子流的更高效利用,提供一种高反射率的多层背反射镜结构,以提高薄膜太阳能电池的短路电流。构成背反射镜的薄膜材料可以采用电子束蒸发、磁控溅射、真空热蒸发技术来制备,工艺简单。

本发明提供的技术方案如下:

一种用于薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构,包括膜(11)和周期性结构(14);所述的膜(11)是Ag膜或Al膜;所述的周期性结构(14),由氧化物导电膜(12)和超薄膜(13)膜组成的双层结构,和一层氧化物导电膜(17)组成;所述的双层结构可以重复1-5次。

所述的Ag膜或Al膜,厚度为200-1000nm,可用电子束蒸发、磁控溅射、或真空热蒸发方法之一制备。

所述的氧化物导电膜,可选自ITO、SnO2:F、ZnO:Al或ZnO:Ga中的一种作为原材料,厚度为100-500nm。

所述的氧化物导电膜可由电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一制备。

所述的超薄Ag膜或超薄Al膜,厚度为3-20nm,可用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一制备。

一种制备所述的用于薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构的方法,包括如下步骤:

1)制备Ag膜或Al膜:用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一,制备厚200-1000nm的Ag膜或Al膜(11);

2)制备氧化物透明导电膜:在ITO、SnO2:F、ZnO:Al或ZnO:Ga中选择一种材料,用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一,在步骤1)所制备的膜上,继续制备厚度为100-500nm的氧化物透明导电膜(12);

3)制备超薄Ag膜或Al膜:用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一,在步骤2)所制备的膜上,继续制备厚度为3-20nm的超薄Ag膜或A膜(13);

4)周期性结构的制备:重复上述2)、3)两个步骤1-5次,最后再加一层氧化物透明导电膜(17)。

本发明的有益效果是:采用了成熟的电子束蒸发、磁控溅射、真空热蒸发技术,制备在可见光和近红外波段有较高的反射率的多层背反射镜结构,将极大地提高薄膜太阳能电池的短路电流,进而提高太阳能电池的光电转换效率。

为了简化制备工艺,所选取的材料体系为金属薄膜和氧化物透明导电膜。超薄金属具有小的面电阻和较高的透光率,是氧化物透明导电膜出现之前常用的透明导电材料。

将超薄金属薄膜和ITO、SnO2:F、ZnO:Al、ZnO:Ga等透明导电薄膜构成周期性结构,在可见光和近红外波段有较高的反射率,太阳能电池能够获得较高的短路电流。并且制备方法均可以采用电子束蒸发、磁控溅射、真空热蒸发技术,工艺简单。

本发明的工艺路线简单、易行,成品率高、电池效率高,有利于提高薄膜太阳能电池的性价比,推广薄膜太阳能电池的应用。

附图说明

图1为包含多层背反射镜结构的非晶硅薄膜太阳能电池结构示意图。

图2为多层背反射镜结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图,说明薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构及其制备方法。

实施例1

以50μm厚的柔性不锈钢为衬底1,采用磁控溅射方法(工作频率为13.56MHz)制备两种背反射镜结构:背反射镜(1)为在衬底上依次沉积厚度为500nm的Ag膜,100nm的ZnO:Al薄膜;背反射镜(2)为在衬底上依次沉积厚度为500nm的Ag膜2,100nm的ZnO:Al薄膜3,10nm的Ag薄膜4,100nm的ZnO:Al薄膜5。

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