[发明专利]一种用于薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构无效

专利信息
申请号: 201010191142.2 申请日: 2010-06-03
公开(公告)号: CN102270672A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 刘成;周丽华;叶晓军;钱子勍;张翼翔;陈鸣波 申请(专利权)人: 上海空间电源研究所
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/18
代理公司: 上海航天局专利中心 31107 代理人: 金家山
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 薄膜 太阳能电池 多层 反射 结构
【权利要求书】:

1.一种用于薄膜太阳能电池的多层背反射镜结构,其特征在于:包括膜(11)和周期性结构(14);所述的膜(11)是Ag膜或Al膜;所述的周期性结构(14),由氧化物导电膜(12)和超薄膜(13)膜组成的双层结构,和一层氧化物导电膜(17)组成;所述的双层结构可以重复1-5次。

2.根据权利要求1所述的多层背反射镜结构,其特征在于:所述的Ag膜或Al膜,厚度为200-1000nm,可用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一制备。

3.根据权利要求1所述的多层背反射镜结构,其特征在于:所述的氧化物导电膜,可选自ITO、SnO2:F、ZnO:Al或ZnO:Ga中的一种作为原材料,厚度为100-500nm。

4.根据权利要求3所述的多层背反射镜结构,其特征在于:所述的氧化物导电膜可由电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一制备。

5.根据权利要求1所述的多层背反射镜结构,其特征在于:所述的超薄Ag膜或超薄Al膜,厚度为3-20nm,可用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一制备。

6.一种制备如权利要求1所述的多层背反射镜结构的方法,其特征在于包括如下步骤:

1)制备Ag膜或Al膜:用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一,制备200-1000nm厚的Ag膜或Al膜(11);

2)制备氧化物透明导电膜:在ITO、SnO2:F、ZnO:Al或ZnO:Ga中选择一种材料,用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发方法之一,在步骤1)所制备的膜上,继续制备厚度为100-500nm的氧化物透明导电膜(12);

3)制备超薄Ag膜或Al膜:用电子束蒸发、磁控溅射或真空热蒸发的方法之一,在步骤2)所制备的膜上,继续制备厚度为3-20nm的超薄Ag膜或A膜(13);

4)周期性结构的制备:重复上述2)、3)两个步骤1-5次,最后再加一层氧化物透明导电膜(17)。 

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