[发明专利]基板材的表面处理装置无效
申请号: | 201010181033.2 | 申请日: | 2010-05-13 |
公开(公告)号: | CN101888744A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 伊藤浩昭 | 申请(专利权)人: | 东京化工机株式会社 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/06;B05B7/02 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 板材 表面 处理 装置 | ||
1.一种基板材的表面处理装置,使用于电子电路基板的制造工序中,从喷嘴对传送的基板材喷射处理液而进行表面处理,所述基板材的表面处理装置的特征在于:
该喷嘴由两流体喷嘴构成,处理液和空气混合后进行喷射,该基板材和该喷嘴之间为5mm以上-40mm以下的距离间隔。
2.根据权利要求1所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
在各喷射管上分别设有多个该喷嘴,
各喷射管向左右方向排列,在前后传送方向上相互存在间隔,且设置多根,同时可以沿左右方向水平往复移动。
3.根据权利要求2所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
从该喷嘴中与该空气一同喷射出的该处理液成为微小粒子,喷射在该基板材上,
而且,该处理液在非常近的所述距离间隔下,以强冲击对该基板材进行喷射的同时,通过该喷射管和该喷嘴的所述水平往复移动,对该基板材进行大面积且均匀的喷射。
4.根据权利要求3所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
以最大冲击值为200mN以上的强冲击,对该基板材喷射该处理液。
5.根据权利要求1所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
在该喷嘴中,压力供给的该空气直入内部喷射通道,相对于直入的该空气,压力供给的该处理液在该内部喷射通道的中途从横方向供给、且进行混合。
6.根据权利要求3或5所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
该空气从作为加压输送源的鼓风机中压力供给至该喷嘴。
7.根据权利要求6所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
从该鼓风机中压力供给至该喷嘴的该空气、和与该空气混合后从该喷嘴中喷射的该处理液,温度在上升,以此通过该处理液对该基板材进行喷射,从而发挥提高该基板材的表面处理精度的功能。
8.根据权利要求1所述的基板材的表面处理装置,其特征在于:
该表面处理装置使用于显影工序、蚀刻工序、剥离工序或者清洗工序中,
该喷嘴将显影液、蚀刻液、剥离液或者清洗液作为该处理液进行喷射。
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