[发明专利]光源及其安装方法、触摸屏、触摸系统和显示器在审

专利信息
申请号: 201010176615.1 申请日: 2010-05-19
公开(公告)号: CN102253756A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 吴振宇;叶新林;刘建军;刘新斌 申请(专利权)人: 北京汇冠新技术股份有限公司
主分类号: G06F3/042 分类号: G06F3/042
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100015 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光源 及其 安装 方法 触摸屏 触摸 系统 显示器
【说明书】:

技术领域

发明涉及光电技术领域,尤其涉及一种光源及其安装方法、触摸屏、触摸系统和显示器。

背景技术

随着计算机技术的普及,在20世纪90年代初出现了一种新的人机交互技术-触摸屏技术。采用这种技术,使用者只要用手轻轻地触摸计算机显示屏上的图形或文字就能操作计算机,从而摆脱了键盘和鼠标的束缚,极大地方便了使用者。

带摄像头触摸屏是一种通过摄像头采集触摸物的图像数据,再将图像数据传送给处理单元进行处理,从而检测出触摸物的位置信息的触摸屏。其中,检测出的触摸物的位置信息的精确程度与摄像头采集的图像数据的质量有密切关系。因此为了使摄像头采集高质量的图像数据,这种触摸屏上会装有光源。现有技术中,通常在摄像头对面的触摸屏框架上安装一排红外反射管作为光源,但是这种光源造价成本过高,从而导致带摄像头触摸屏的生产成本较高,影响该种触摸屏的推广应用。

为了克服成产成本过高的问题,出现了一种新的带摄像头触摸屏,如图1所示,为现有技术中带摄像头触摸屏的结构示意图,包括触摸屏框架14、安装在触摸屏框架14的一条边缘的两端的两个红外摄像头9和10、分别安装在邻近红外摄像头9和10的位置处的两个红外光源12和13、安装在触摸屏框架边缘的回归反射条11、以及分别与红外摄像头9和10连接的处理单元15。其中,触摸屏框架14的内部为触摸检测区16,回归反射条11将由红外光源12和13发射的光分别反射到红外摄像头9和10,红外摄像头9和10分别采集图像数据并将该图像数据发送到处理单元15,处理单元15处理该图像数据以确定触摸物的位置信息。由于回归反射条11的成本较低,因此大大降低了触摸屏的生产成本。但是,发明人在研究本发明的过程中发现,随着红外光源12和13发射到回归反射条11的光的入射角以及距离的增大,回归反射条11的反射效率减小,回归反射条11反射回红外摄像头9和10的光将减少,从而导致红外摄像头9和10采集的图像数据的亮度不均匀,其中,红外摄像头9和10采集的图像数据中由回归反射条11上反射效率较低的区域反射的光形成的图像块的亮度较小,而由回归发射条11上反射效率较高的区域反射的光形成的图像块的亮度较大,触摸屏根据红外摄像头9和10采集的图像数据检测触摸物时,若触摸物的像位于图像数据中由回归反射条11上反射效率较低的区域反射的光形成的图像块上,触摸屏将不能识别出触摸物,从而降低了触摸屏检测触摸物的精度,其中,入射角指的是红外光源12发射到回归反射条11的光与回归反射条11的表面的法线的夹角。

发明内容

本发明提供一种光源及其安装方法、触摸屏、触摸系统和显示器,用以实现提高成像设备采集的图像数据的亮度均匀性,从而提高触摸屏检测触摸物的精度。

本发明还提供一种光源,所述光源应用于至少包括两个成像设备、两个所述光源、回归反射条和处理单元的触摸屏,对于每个光源,所述回归反射条包括第一区域和第二区域,所述光源发射到所述第一区域的光的强度大于所述光源发射到所述第二区域的光的强度,其中,所述第一区域包括所述回归反射条上反射效率最低的区域。

本发明还提供一种触摸屏,至少包括两个成像设备、两个光源、回归反射条和处理单元,对于每个光源,所述回归反射条包括第一区域和第二区域,所述光源发射到所述第一区域的光的强度大于所述光源发射到所述第二区域的光的强度,其中,所述第一区域包括所述回归反射条上反射效率最低的区域处理单元。

本发明还提供一种触摸系统,至少包括两个成像设备、两个光源、回归反射条和处理单元,对于每个光源,所述回归反射条包括第一区域和第二区域,所述光源发射到所述第一区域的光的强度大于所述光源发射到所述第二区域的光的强度,其中,所述第一区域包括所述回归反射条上反射效率最低的区域处理单元。

本发明还提供一种显示器,包括显示单元和触摸屏,所述触摸屏至少包括两个成像设备、两个光源、回归反射条和处理单元,对于每个光源,所述回归反射条包括第一区域和第二区域,所述光源发射到所述第一区域的光的强度大于所述光源发射到所述第二区域的光的强度,其中,所述第一区域包括所述回归反射条上反射效率最低的区域处理单元。

本发明还提供一种光源的安装方法,包括:

将所述光源固定在基板上;

将所述基板安装在邻近所述成像设备的位置处,使得所述光源发射到所述第一区域的光的强度大于所述光源发射到所述第二区域的光的强度。

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