[发明专利]一种纳米压印硬模板的制备方法

权利要求书

1.一种纳米压印硬模板的制备方法，包括如下步骤：

(1)制备多孔阳极氧化铝AAO模板；

(2)在上述模板表面镀膜；

(3)制备衬底：在洁净的硅或石英表面旋涂一层光刻胶或热压胶，形成由硅基或石英基底和光刻胶或热压胶组成的衬底；

(4)将上述镀膜后的模板和衬底进行纳米压印；

(5)脱模：将上述压印处理后的模板与衬底分离，从而在所述衬底的光刻胶或热压胶上形成所述多孔阳极氧化铝AAO模板的互补图形；

(6)反应离子束蚀刻(RIE)，将上述互补图形转移到硅或石英基底上；

(7)将步骤(6)所得的硅基底或石英基底经去胶、清洗、烘干处理，即得到硅基或石英基硬模板。

2.根据权利要求1所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，所述多孔阳极氧化铝AAO模板是在0.1～0.5mol/L的草酸溶液中采用两步电化学阳极氧化法制备的，其中阳极电压为40～50V，温度为0～15℃，第一步氧化时间为2小时，第二步氧化时间为3～5分钟，经两步氧化后再在质量浓度为5％的H₃PO₄中进行扩孔处理，即得到所需的模板。

3.根据权利要求2所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，所述多孔阳极氧化铝AAO模板中孔的尺寸可调。

4.根据权利要求3所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，所述孔的尺寸指孔径、孔间距和孔深度。

5.根据权利要求1-4之一所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，所述的镀膜具体过程为：在一个标准大气压和常温条件下，将所述多孔阳极氧化铝AAO模板在全氟辛基-三氯硅烷的蒸汽气氛中蒸镀80～100分钟，然后在100℃条件下烘烤13～15分钟，使得在模板表面形成一层致密的有机分子层。

6.根据权利要求1-5之一所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，上述步骤(4)中的纳米压印为紫外纳米压印或热纳米压印。

7.根据权利要求6所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，所述的紫外光从石英基底或镀膜后的模板上方正入射，紫外光强为80mw/cm²，曝光时间10～13分钟。

8.根据权利要求1-7之一所述的一种纳米压印硬模板的制备方法，其特征在于，上述步骤(6)中，共进行两次反应离子束蚀刻(RIE)，其中所述反应离子束蚀刻(RIE)以印有所述互补图形的光刻胶或热压胶为掩模。

9.一种利用权利要求1-8之一所述的方法制备的纳米压印硬模板。