[发明专利]X射线系统和具有剂量面积乘积测量室的瞄准器有效
申请号: | 201010105851.4 | 申请日: | 2010-01-26 |
公开(公告)号: | CN101791226A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 英戈·克莱姆 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 时永红 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 系统 具有 剂量 面积 乘积 测量 瞄准 | ||
1.一种X射线系统(100),具有:
在X射线源(110)和检测器(130)之间延伸的射程(111);
设置在该射程(111)中的分光镜(124),用于将可见光耦合到该射程(111) 中;以及
剂量面积乘积测量室(122),其设置在X射线源(110)和分光镜(124) 之间的射程(111)中,
其中,附加地包括:
设置在射程(111)中靠近焦点的薄片(121),用于防止不期望释放的辐 射;
一个或多个滤镜(123);
其中,所述剂量面积乘积测量室设置在靠近焦点的薄片(121)和滤镜(123) 之间的射程(111)中。
2.根据权利要求1所述的X射线系统(100),包括计算单元,其确定射 程(111)中的设置在剂量面积乘积测量室(122)之后的元件的影响,并且相 应地校正由剂量面积乘积测量室(122)提供的测量结果,其中,所述设置在剂 量面积乘积测量室(122)之后的元件包括所述滤镜的滤镜元件(123A,123B, 123C)。
3.一种用于X射线系统(100)的瞄准器(120),其设置在X射线系统的 射程(111)中并且具有:
分光镜(124),用于将可见光耦合到射程(111)中;以及
剂量面积乘积测量室(122),其设置在瞄准器(120)的辐射入射开口和 分光镜(124)之间的射程(111)中,
其中,附加地具有:
靠近焦点的薄片(121),用于防止不期望释放的辐射;
一个或多个滤镜(123);
其中,所述剂量面积乘积测量室(122)设置在靠近焦点的薄片(121)和 滤镜(123)之间的射程(111)中。
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