[发明专利]反应装置以及反应装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及反应装置以及反应装置的制造方法。

背景技术

以往，使第一反应剂与第二反应剂在接触的状态下流动并且使这两种反应剂相互反应，据此制造期望的反应生成物。这种生成物的制造例如使用下述专利文献1中公开的反应装置。

图10与图11中分别示出该专利文献1中公开的反应装置的例子。

图10所示的反应装置包括内部设置有使反应剂流动的流路的流路结构体102。流路结构体102内的流路包括：导入第一反应剂的第一导入路径104、导入第二反应剂的第二导入路径106、使通过上述各导入路径104、106流动的两种反应剂合流的合流路径108、以及用于使在该合流路径108中合流的两种反应剂流动并且相互反应的反应路径110。

并且，流路结构体102包括基板112以及以夹合该基板112的状态与该基板112一体化的一对密封板114、116。在基板112的一个面上，形成有构成第一导入路径104的第一导入沟118和构成反应路径110的反应沟120，在基板112的另一个面上，形成有构成第二导入路径106的第二导入沟122。另外，构成合流路径108的合流孔124在两个导入沟118、122的下游侧端部与反应沟120的上游侧端部之间以连接上述各个沟118、122、120的方式从基板112的所述一个面向所述另一个面贯通。上述各个沟118、122、120以及合流孔124的各自的开口部由对应的密封板114、116覆盖，由此形成第一导入路径104、第二导入路径106、合流路径108以及反应路径110。并且，在该反应装置中，第一导入沟118的底面与反应沟120的底面平齐。

在上述结构中，第一导入沟118的底面与反应沟120的底面平齐，因此第一反应剂成直线地顺畅流动，另一方面，在基板112中与形成有第一导入沟118以及反应沟120的面相反侧的面上形成有第二导入沟122，因此第二反应剂相对于所述成直线流动的第一反应剂在途中合流。因此，第二反应剂相对于第一反应剂的充分混入比较困难，其结果是，难以提高两种反应剂的混合的均匀性。

对此，若如图11所示的反应装置的流路结构体132那样，从第一导入路径104经过合流路径108到达反应路径110的路径构成为第一反应剂从基板112的一个面一侧向另一个面一侧移动并且流向下游侧的弯折形状，并且，从第二导入路径106经过合流路径108到达反应路径110的路径构成为第二反应剂从基板112的另一个面一侧向一个面一侧移动并且流向下游侧的弯折形状，则两种反应剂向相互接近的方向移动且进行合流，其结果是能够提高两种反应剂的混合的均匀性。

但是，要形成图11所示的流路结构体132，除了需要进行用于在基板112上形成与第一导入路径104、第二导入路径106、反应路径110以及合流路径108分别对应的各个沟部的蚀刻以外，还需要对两个密封板114、116进行蚀刻以使两个密封板114、116中仅与反应路径110对应的部分突出，引起蚀刻作业量增大。另外，需要在相对于基板112进行位置校准，且需要接合两个密封板114、116，以使两个密封板114、116的所述突出的部分嵌入以上述方式进行了蚀刻的基板112中的与反应路径110对应的部分，密封板114、116与基板112的接合工序变得繁琐。因此，对该结构而言，存在反应装置的制造工序变得繁琐这一问题。

专利文献1：日本特开2008-168173号公报

发明内容

本发明的目的在于提供解决上述问题的反应装置以及反应装置的制造方法。

本发明的另一目的在于提高反应装置中反应剂的混合的均匀性，并且防止反应装置的制造工序变得繁琐。