[发明专利]具有独特特征部分的磨粒无效

专利信息
申请号: 200980144706.2 申请日: 2009-09-16
公开(公告)号: CN102209766A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 张凯;拉杰夫·帕卡拉帕提;约翰·W·卢采克 申请(专利权)人: 戴蒙得创新股份有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;C04B35/5831
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张珂珂;郭国清
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 独特 特征 部分
【说明书】:

相关申请的交叉引用

本申请要求保护2008年9月16日提交的在先美国临时申请序列号61/097,527的优先权。

附图说明

图1是具有高温-高压装置的液压机的正视图,可将其用于制备本申请中教导的颗粒。

图2是图1的高温-高压装置的放大的分解截面图。

图3是图1和2中所示的反应容器和附件的放大的截面图。

图4是常规立方氮化硼颗粒的SEM(扫描电子显微镜)图像。

图5示意性地显示了常规立方氮化硼颗粒的外观。

图6示意性地显示了常规立方氮化硼磨粒的外观。

图7A-7D是显示常规立方氮化硼颗粒的SEM图像。

图8示意性地显示了立方氮化硼颗粒的实施方案。

图9是显示该立方氮化硼颗粒的实施方案的SEM(扫描电子显微镜)图像。

图10示意性地显示了超硬磨粒的实施方案的横截面。

图11示意性地显示了该具有独特特征部分的立方氮化硼颗粒与粘结材料之间的粘结区域的横截面视图。

图12A-12D是显示该立方氮化硼颗粒的实施方案的SEM(扫描电子显微镜)图像。

图13A-13D是显示该立方氮化硼颗粒的实施方案的SEM(扫描电子显微镜)图像。

图14是显示该立方氮化硼颗粒的实施方案的扫描电子显微镜(SEM)图像。

图15包括显示对该具有独特特征部分的颗粒与常规立方氮化硼颗粒进行比较的研磨试验的结果的图(A)和(B)。

图16是显示该立方氮化硼颗粒的实施方案的扫描电子显微镜(SEM)图像。

发明详述

在本方法之前描述体系和材料,应当理解为本发明并不局限于所述的特定方法、体系和材料,因为其可能改变。也应当理解为在本说明书中使用的术语仅用于描述特定的形式或实施方案的目的,并不是旨在限制范围。例如,除非上下文中有明确的相反指示,在此处和附属权利要求中所用的单数形式“一个”、“一种”、“该”和“所述”包括复数含义。此外,此处所用的词语“包括”旨在表示“包括但不局限于”。除非有相反的指示,此处所用的所有技术和科学术语具有与本领域普通技术人员通常理解的相同的含义。

除非有相反的指示,在本说明书和权利要求书中所有表示组分含量、性质,例如尺寸、重量、反应条件等的数值在所有情况下都应当理解为被术语“约”修饰。因此,除非有相反的指示,在如下说明书和附属权利要求书中提出的数值参数都是近似值,其可以根据寻求得到的理想性质而改变。在最低限度且并不作为限制与权利要求范围等效的条款的应用,各数值参数应当至少按照所给出的有效数字位数并通过应用常规取整技术来解释。

此处所用的术语“约”表示使用其的该数值加或减其10%。因此,约50%表示在40%-60%范围内。

定义

在以下的描述和实施例中,使用了多个术语。为了提供该说明书和权利要求书的清楚一致的理解,提供以下定义。

此处所用的术语“磨料”表示用于磨除较软材料的任意材料。

此处所用的术语“颗粒面”或“面”表示由该颗粒的边缘限定的颗粒的外部部分;例如参见图5。颗粒50包括由边缘31、32、33、34、35和26限定的面30。

此处所用的术语“不规则的”表示不充分直的、不充分均匀的或不充分对称的。

此处所用的术语“波动”表示在或好像在波浪和起伏中的升高和降低。

此处所用的术语“随机分布”表示没有特定的样式。

此处所用的术语“凹面”表示类似碗的内部的向内呈中空或圆形的表面。

此处所用的术语“基准面”表示延伸通过颗粒的二维图像的虚线。该线连接颗粒表面上两个相对边缘上的两点。在图10中,该基准面显示为连接点54a和54b的54。

此处所用的术语“尖端”表示从该颗粒的基准面突出的任何点。在图10中,该尖端示为52。

此处所用的术语“凹部”表示在低于该颗粒的基准面的面上的凹形或角距离。在图10中,该凹部示为56。

重要的是指出尽管上述定义的术语涉及使用显微测量技术对二维微粒轮廓的测定,但理解为该特征部分扩展到三维形式。本领域技术人员认为粒径、形状和特征部分的自动图像分析是测定微粒特征部分的可靠的可再现的方法。

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