[发明专利]光电转换器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980138104.6 申请日: 2009-09-17
公开(公告)号: CN102165600A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 宫入秀和;广桥拓也;下村明久 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光电 转换 器件 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光电转换器件,包括:

位于第一电极与第二电极之间的单元电池,所述单元电池包括按顺序堆叠从而形成半导体结的一种导电性类型的第一杂质半导体层、非单晶半导体层以及导电性类型与所述第一杂质半导体层相反的第二杂质半导体层,

其中所述非单晶半导体层包含NH基。

2.如权利要求1所述的光电转换器件,其特征在于,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为5×1018/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低,以及

其中通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氧和碳的浓度均低于5×1018/cm3

3.如权利要求2所述的光电转换器件,其特征在于,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为1×1019/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低。

4.如权利要求1所述的光电转换器件,其特征在于,还包括位于所述第一杂质半导体层与所述非单晶半导体层之间的非晶半导体层。

5.一种光电转换器件,包括:

位于第一电极与第二电极之间的单元电池,所述单元电池包括按顺序堆叠从而形成半导体结的一种导电性类型的第一杂质半导体层、非单晶半导体层以及导电性类型与所述第一杂质半导体层相反的第二杂质半导体层,

其中所述非单晶半导体层包含NH2基。

6.如权利要求5所述的光电转换器件,其特征在于,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为5×1018/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低,以及

其中通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氧和碳的浓度均低于5×1018/cm3

7.如权利要求6所述的光电转换器件,其特征在于,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为1×1019/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低。

8.如权利要求5所述的光电转换器件,其特征在于,还包括位于所述第一杂质半导体层与所述非单晶半导体层之间的非晶半导体层。

9.一种光电转换器件,包括:

在第一电极与第二电极之间堆叠的多个单元电池,每个单元电池包括按顺序堆叠从而形成半导体结的一种导电性类型的第一杂质半导体层、非单晶半导体层以及导电性类型与所述第一杂质半导体层相反的第二杂质半导体层,

其中在光入射侧单元电池中,所述非单晶半导体层包含NH基。

10.如权利要求9所述的光电转换器件,其特征在于,至少在所述光入射侧单元电池中,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为5×1018/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低,以及

其中至少在所述光入射侧单元电池中,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氧和碳的浓度均低于5×1018/cm3

11.如权利要求10所述的光电转换器件,其特征在于,至少在所述光入射侧单元电池中,通过二次离子质谱法测得的所述非单晶半导体层中的氮浓度为1×1019/cm3或更高以及5×1020/cm3或更低。

12.如权利要求9所述的光电转换器件,其特征在于,还包括在至少一个所述单元电池中的位于所述第一杂质半导体层与所述非单晶半导体层之间的非晶半导体层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200980138104.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top