[发明专利]新化合物，含有它们的药物组合物及其使用方法

权利要求书

1.一种下式化合物：

其中X由选自O、S或N的杂原子构成；R¹和R²独立地选自H、C₁-C₂₀烷基、环烷基、烯基、芳基、芳烷基或烷芳基；和

R³和R⁴独立地是氢或是一个有4-6个碳原子的取代或未取代的环，条件是，R³和R⁴不都是氢，并且如果R³和R⁴都不是氢，则R³和R⁴是相同的有4-6个碳原子的取代或未取代的环。

2.权利要求1的化合物，其中X由氧或硫构成。

3.权利要求1的化合物，其中R³是氢，R⁴选自取代或未取代的芳基，取代或未取代的杂芳基，和各有4-6个碳原子的取代或未取代的杂环基。

4.权利要求3的化合物，其中R⁴被一个或多个第一取代基团取代，该取代基团选自卤原子、C₁-C₃烷基、C₁-C₃卤烷基、-OR⁵、-SR⁵、-CN、-CONH₂、-SO₂NH₂、-C(O)OR⁶、-CONHR⁷以及环烷基或杂环基，其中该第一取代基团的环烷基或杂环基可任选地是芳族基团，并任选地与两个相邻的R⁴原子稠合，和任选地被至少一个R⁵构成的取代基取代，

其中R⁵选自C₁-C₈烷基，C₁-C₈烷氧基，芳基，烷芳基，芳烷基，并任选地被一个或多个第二取代基团取代，该取代基团选自卤原子、C₁-C₃烷基、C₁-C₃烷氧基，C₁-C₃卤烷基和C₁-C₃卤代烷氧基，

其中R⁶是C₁-C₈烷基，R⁷选自C₁-C₈烷基、烯丙基、吗啉、哌嗪、被R⁵ N-取代的哌嗪，以及含N、O、S或其任何组合的5或6元杂环。

5.权利要求4的化合物，其中R³是氢，R⁴为任选被一个或多个第一取代基团取代的芳基。

6.权利要求1的化合物，其中R³和R⁴与它们连接的原子和键一起形成一个取代或未取代的5-7元杂环，在环结构内有至少一个氮原子。