[发明专利]激光蚀刻品的制备方法以及激光蚀刻品有效
| 申请号： | 200980113649.1 | 申请日： | 2009-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN102007004A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 藤井宪太郎;安井俊之 | 申请（专利权）人： | 日本写真印刷株式会社 |
| 主分类号： | B44C1/22 | 分类号： | B44C1/22;B23K26/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 冯雅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 蚀刻 制备 方法 以及 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光蚀刻品的制备方法，其特征在于，对于在经激光照射过的区域发泡的树脂层上层叠了加饰层的加饰品，通过从在表面上层叠了所述加饰层的一侧向所述加饰品的一部分照射激光而除去经激光照射过的区域的所述加饰层，再通过继续照射激光使该区域的所述树脂层表面发泡而形成发泡层。
2.根据权利要求1所述的激光蚀刻品的制备方法，其中，在所述树脂层上层叠的所述加饰层是通过转印转印膜的转印层而形成的。
3.根据权利要求1所述的激光蚀刻品的制备方法，其中，使所述发泡层的表面与所述加饰层的表面为同一面。
4.根据权利要求1所述的激光蚀刻品的制备方法，其中，使所述发泡层的表面高隆起于所述加饰层的表面。
5.一种激光蚀刻品，其特征在于，该激光蚀刻品是由权利要求1～4中任意一项所述的激光蚀刻品的制备方法形成的。
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