[实用新型]研磨液传输装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种应用于化学机械研磨机台的研磨液传输装置。

背景技术

目前，化学机械研磨工艺(Chemical Mechanical Polishing，CMP)是半导体工艺中最常见且最重要的平坦化工艺之一，其目的在于均匀地去除晶圆上具有不规则表面的目标薄膜层(target thin film)，使所述晶圆在经过化学机械研磨工艺后能够具有平坦且规则的表面，以确保后续工艺的良率，尤其是对于双镶嵌(Dual Damascene)结构的金属导线的制作，例如铜导线的制作，化学机械研磨工艺更是无法取代的步骤。

由于化学机械研磨工艺是同时利用机械方式与化学方式进行，因此必须考虑到很多复杂的工艺参数，例如目标薄膜层的特性、研磨液(slurry)的成分、研磨垫(polishing pad)的组成、平台(platen)转速等，其中研磨液的成分的控制对于化学机械研磨工艺的良率具有举足轻重的影响。一般来说，研磨液的成分主要包括有研磨剂(abrasive)以及氧化剂(oxidizer)，二者混合后会形成粘稠液体，经研磨液传输装置输送至化学机械研磨机台的平台。

请参考图1，其为现有的研磨液传输装置的示意图。如图1所示，现有的研磨液传输装置主要包括第一管路11、第二管路12、第三管路13、歧管14、过滤装置15以及流量控制器16，其中，第一管路11的一端与歧管14连通，第一管路11的另一端与过滤装置15连通，第二管路12的一端与该过滤装置15连通，第二管路12的另一端与流量控制器16连通，第三管路13的一端与该流量控制器16连通，第三管路13的另一端与化学机械研磨机台20连通，其中，第一管路11上设置有阀门17。在进行化学机械研磨工艺时，阀门17处于打开状态，歧管14内的研磨液经所述第一管路11、第二管路12和第三管路13输送至化学机械研磨机台20，其中过滤装置15是用以过滤研磨液中的不可溶物，流量控制装器16是用以调节输送至化学机械研磨机台20的研磨液的流量和流速。

然而，在实际生产中发现，现有的研磨液传输装置存在一些问题，即在化学机械研磨机台20处于闲置(idle)状态时，由于阀门17将会处于关闭状态，因此第一管路11、第二管路12和第三管路13内存留的研磨液将处于静止状态，在这种情况下，所述各个管路内的研磨液受温度等因素影响，经常出现研磨液结晶现象，产生的结晶体经常滞留于所述各个管路中导致管路堵塞，并且这些结晶体也极易堵塞过滤装置15，造成研磨液传输装置损坏，更为严重的是，在进行化学机械研磨工艺时，这些结晶体还经常会残留于晶圆表面，导致晶圆表面出现划痕(scratch)，影响了产品的良率。

为了解决上述问题，业界通常采取的方法是在化学机械研磨机台20处于闲置状态时，仍然定时的打开阀门17，并输送研磨液至化学机械研磨机台20，使得所述各个管路内的研磨液处于流动状态，以确保不会出现研磨液结晶现象。然而，这种方法是在未进行化学机械研磨工艺时，仍然供给研磨液给化学机械研磨机台20，而研磨液又是一种价格非常昂贵的化学试剂，这造成了极大的浪费，增加了生产成本。

因此，提供一种可节约生产成本的研磨液传输装置，以解决研磨液结晶的问题，是十分必要的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种低成本的研磨液传输装置，以解决现有的研磨液传输装置在化学机械研磨机台处于闲置状态时，研磨液结晶的问题。

为解决上述问题，本实用新型提供一种应用于化学机械研磨机台的研磨液传输装置，其包括：第一管路，一端与一歧管连通，另一端与一过滤装置连通；第二管路，一端与该过滤装置连通，另一端与一流量控制器连通；第三管路，一端与该流量控制器连通，另一端与该化学机械研磨机台连通；其中，所述第一管路、所述第二管路和所述第三管路上分别设置有至少一个超声波发生装置。

可选的，所述研磨液传输装置还包括一阀箱，该阀箱包括一箱体，所述歧管设置于所述箱体内部，所述第一管路的一端穿设所述箱体与该歧管连通，所述第一管路上设置有一第一阀门，所述第一阀门是位于所述箱体内部。

可选的，所述研磨液传输装置还包括一进液管路，该进液管路的一端穿设所述箱体与所述歧管连通，该进液管路的另一端与一研磨液供应槽连通。

可选的，所述研磨液传输装置还包括一出液管路，该出液管路的一端穿设所述箱体与所述歧管连通，该出液管路的另一端与一研磨液供应槽连通。