[实用新型]光学透明狭缝及带有光学透明狭缝的分光仪有效
申请号: | 200920074459.0 | 申请日: | 2009-09-03 |
公开(公告)号: | CN201488810U | 公开(公告)日: | 2010-05-26 |
发明(设计)人: | 江道国 | 申请(专利权)人: | 必达泰克光电设备(上海)有限公司 |
主分类号: | G01J3/04 | 分类号: | G01J3/04;G01J3/00 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 张骥 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路5*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 透明 狭缝 带有 分光仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种光学检测仪器,具体涉及一种光学透明狭缝。本发明还涉及一种带有光学透明狭缝的分光仪。
背景技术
近年来线阵列、面阵列的探测器广泛应用到光谱仪及分光光度计上,使光谱仪、分光光度计在各个领域内日益发挥着重要作用。这种带有阵列探测器的光谱仪或分光光度计需要使用到狭缝(slit),狭缝是决定仪器分辨率指标的重要零件。
目前广泛使用的狭缝包括一厚度为80~100微米的基片,基片上开具有一定规格、一定形状的细缝,该细缝的尺寸最终决定了仪器的分辨率。这种狭缝的制作方法是通过蚀刻或激光切等方法在平整的金属基片上产生所需要的细缝,不仅加工成本高,而且细缝的边缘质量较差。
此外,这种狭缝还存在以下缺点:
1、由于该狭缝的细缝宽度非常窄,一旦细缝内落入极小的杂质,清理这些杂质将非常困难,这些杂质会影响到仪器的响应度且对分辨率产生影响。
2、该狭缝的厚度很薄(80~100微米),而狭缝的基片一般采用平整金属材料制成,仪器安装过程中很容易破坏狭缝的表面平面度,进而影响狭缝的质量。由于狭缝的质量不高,会恶化在阵列探测器上的成像质量,从而影响到仪器的分辨率,为消除这些不利影响一般还要通过其它的方法进行校正。
3、该狭缝的细缝使光谱仪的外部环境与内部环境是相通的,在某些使用环境中外部环境会对内部的光学器件、阵列探测器以及电路造成损坏,限制了光谱仪的应用范围。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种光学透明狭缝,它可以改善成像质量,降低加工成本。
为解决上述技术问题,本实用新型光学透明狭缝的技术解决方案为:
包括光学透明基片,光学透明基片包括透光区域和非透光区域,非透光区域的一面或两面分别镀有金属膜;所述透光区域的宽度不大于0.5mm。
所述金属膜的膜层厚度为2~5微米。
所述非透光区域的边缘设有定位缺口。
本实用新型还提供一种带有光学透明狭缝的分光仪,其技术解决方案为:
包括阵列探测器、光学透明狭缝、分光光学及其机械模块,光线从光学透明狭缝进入分光光学及其机械模块的光学空间,在阵列探测器上成像。
所述分光光学及其机械模块与光学透明狭缝形成密闭空间。
所述分光光学及其机械模块的光学空间内充填有保护性气体。
本实用新型可以达到的技术效果是:
本实用新型光学透明狭缝的透光区域为封闭式,不存在任何细缝,维护更加方便,封闭性更好,应用领域大,使用寿命长。
本实用新型光学透明狭缝的透光区域边缘质量高,在阵列探测器上的成像质量好,能够提高分光仪的像质。
本实用新型光学透明狭缝的透光区域的制造方法简单,制造成本低。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明:
图1是本实用新型光学透明狭缝的示意图;
图2是本实用新型的剖面图;
图3是本实用新型带有光学透明狭缝的分光仪的示意图。
图中附图标记说明:
1为非透光区域, 2为透光区域,
3为定位缺口, 11为光学透明基片,
12为金属膜, 13为感光胶,
10为光学透明狭缝, 6为壳体,
7为阵列探测器, 8为光学空间。
具体实施方式
如图1、图2所示,本实用新型光学透明狭缝,包括光学透明基片11,光学透明基片11包括透光区域2、非透光区域1,非透光区域1的两面分别镀有一层完全不透光的金属膜12。
透光区域2的宽度不大于0.5mm。透光区域2的宽度决定了光谱仪的分辨率。
光学透明基片11可以是玻璃、石英、硅片等在UV到IR区域内透光的光学透明材料。
金属膜12的膜层厚度为2~5微米。
非透光区域1的边缘设有定位缺口3,定位缺口3用于定位光学透明狭缝的方向,以利于调试的方便。
也可在非细缝区域1的一面镀有一层完全不透光的金属膜12。镀有金属膜12的一面为光学透明狭缝的工作面。
本实用新型透光区域2的制作方法是:在金属膜12上涂上一层感光胶13,通过掩膜版对涂有感光胶13的基片进行曝光(掩膜版的形状与细缝区域2的形状相同),再将整个基片放入腐蚀液中将透光区域2的金属膜12去掉而形成的;最后将感光胶13去除。
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