[发明专利]导电片结构

权利要求书

1.一种导电片结构，其包括一基板和一纳米碳管层，其特征在于：该导电片结构进一步包括一第一功能层，该第一功能层具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电和抗刮的功能中的其中之一。

2.如权利要求1所述的导电片结构，其特征在于：该第一功能层与该纳米碳管层位于该基板的一侧，且该第一功能层包括一抗反射层、一抗眩层、一抗牛顿环层及一抗刮的硬化涂层中的其中之一。

3.如权利要求2所述的导电片结构，其特征在于：该抗反射层包括一低折射率涂层，该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。

4.如权利要求3所述的导电片结构，其特征在于：该低折射率涂层的折射系数小于1.49。

5.如权利要求4所述的导电片结构，其特征在于：该低折射率涂层的折射系数大于1.2。

6.如权利要求3所述的导电片结构，其特征在于：该抗反射层进一步包括一高折射率涂层，该高折射率涂层的折射系数固定，且大于该低折射率涂层的折射系数并小于该基板的折射系数。

7.如权利要求3所述的导电片结构，其特征在于：该低折射率涂层位于该纳米碳管层与该基板之间，该低折射率涂层的厚度小于10um。

8.如权利要求2所述的导电片结构，其特征在于：该纳米碳管层位于该第一功能层与该基板之间，该第一功能层接触该纳米碳管层，且该第一功能层的厚度小于2um。

9.如权利要求2所述的导电片结构，其特征在于：该导电片结构进一步包括一第二功能层，该第二功能层设于该基板的另一侧，具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电和抗刮的功能中的其中之一。

10.一种导电片结构，其包括一基板和一纳米碳管层，其特征在于：该导电片结构进一步包括一第一功能层，该纳米碳管层位于该第一功能层与该基板之间，该第一功能层接触该纳米碳管层，且该第一功能层的厚度小于2um。

11.如权利要求10所述的导电片结构，其特征在于：该第一功能层包括一抗反射层、一抗眩层、一抗牛顿环层及一抗括的硬化涂层中的其中之一。

12.如权利要求11所述的导电片结构，其特征在于：该抗反射层包括一低折射率涂层，该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。