[发明专利]真空溅射装置

权利要求书

1.一种真空溅射装置，其用于对基材镀膜，其特征在于，所述真空溅射装置包括内空的第一屏蔽罩以及第二屏蔽罩，所述第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩之间设置有一第一阀门，所述第一阀门用于控制所述第一屏蔽罩与所述第二屏蔽罩隔开或连通；所述第一屏蔽罩上开设有一抽真空孔，其用于在每次打开第一阀门前，通过一真空装置将第一屏蔽罩内部抽为真空，所述第二屏蔽罩的内侧壁上设置有多个靶材；所述第一屏蔽罩在与第一阀门相对的底面上设置有一升降装置，所述升降装置包括一轴向气压缸以及一支撑轴，所述基材设置在支撑轴远离轴向气压缸的端部且朝向所述第二屏蔽罩，所述轴向气压缸固定在第一屏蔽罩上，其用于控制所述支撑轴相对所述第二屏蔽罩往返运动，使得基材进入第二屏蔽罩与靶材相对或者从第二屏蔽罩回到第一屏蔽罩内。

2.如权利要求1所述的真空溅射装置，其特征在于，所述真空溅射装置上还开设有靶材接地线孔以及基材接地线孔，所述基材上连接有一基材接地线，所述靶材上连接有一靶材接地线，所述基材接地线从所述基材接地线孔引出真空溅射装置外，所述靶材接地线从所述靶材接地线孔引出真空溅射装置外。

3.如权利要求1所述的真空溅射装置，其特征在于，所述第一屏蔽罩垂直于第一阀门的两侧壁上设置分别开设有一个第二阀门，所述第二阀门用于供操作者放入基材。

4.如权利要求1所述的真空溅射装置，其特征在于，所述第一阀门沿平行于第一屏蔽罩底面的方向运动。

5.如权利要求1所述的真空溅射装置，其特征在于，所述真空溅射装置还包括一第三屏蔽罩，所述第三屏蔽罩与第二屏蔽罩并排在所述第一屏蔽罩的一侧壁外表面上，所述第三屏蔽罩的侧壁内表面上也分布有多个靶材。

6.如权利要求5所述的真空溅射装置，其特征在于，收容在第二屏蔽罩内的靶材与收容在第三屏蔽罩内的靶材材料相同。

7.如权利要求5所述的真空溅射装置，其特征在于，收容在第二屏蔽罩内的靶材与收容在第三屏蔽罩内的靶材材料不同。

8.如权利要求7所述的真空溅射装置，其特征在于，所述升降装置还包括一与轴向气压缸连接的旋转马达，所述旋转马达固定设置在第一屏蔽罩的底面上，所述轴向气压缸连接在旋转马达与支撑轴之间，所述支撑轴包括至少两个对称设置的支撑杆，多个所述基材分别固定在支撑杆的端部。

9.如权利要求8所述的真空溅射装置，其特征在于，所述升降装置与一控制装置电连接，所述控制装置具有一旋转马达开关以及一轴向气压缸开关，所述旋转马达开关用于控制旋转马达旋转，所述轴向气压缸开关用于控制轴向气压缸开闭，所述轴向气压缸与支撑轴连通，所述支撑轴根据轴向气压缸的开闭进行伸缩。

10.如权利要求9所述的真空溅射装置，其特征在于，所述控制装置根据旋转马达开关的开启命令，控制旋转马达每次旋转180度。