[发明专利]成膜装置和成膜方法

权利要求书

1.一种成膜装置，其用于在扁平的真空容器内将互相反应 的至少两种反应气体按顺序供给到基板的表面上并执行该供给 循环，从而层叠多层反应生成物的层来形成薄膜，其特征在于，

包括：

旋转台，其被设置在上述真空容器内，具有载置基板的基 板载置区域；

加热器单元，其设置在上述旋转台和上述真空容器的底面 部之间，并与该旋转台和真空容器的底面部之间隔有间隙，该 加热器单元通过加热该旋转台来对载置在上述基板载置区域的 基板进行加热；

上述真空容器的顶板，其以隔着间隙从上述旋转台的上表 面侧覆盖该旋转台的方式设置；

第1反应气体供给部件和第2反应气体供给部件，它们在上 述旋转台的周向互相隔开间隔地设置，分别用于将第1反应气体 和第2反应气体供给到上述旋转台上的基板载置区域侧的面上， 该第1反应气体为使固体原料或液体原料气化而得到的反应气 体；

分离气体供给部件，其为了分离被供给第1反应气体的第1 处理区域、被供给第2反应气体的第2处理区域的气氛，用于将 分离气体供给到在上述周向上位于上述处理区域之间的分离区 域；

排气口，其用于对被供给到上述旋转台上的各反应气体和 分离气体进行排气；

以及温度调节部件，其设置在上述真空容器的底面部和顶 板，能够将该底面部和顶板加热到能将上述反应气体维持在气 体状态的温度，并且，能够对受来自上述加热器单元的热量加 热的底面部和顶板进行冷却。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述温度调节部件包括被设在上述真空容器上的温度调 节流体流路。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述温度调节部件包括被设在上述真空容器上的冷却流 体流路以及被设在上述真空容器内的加热部件。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述温度调节部件还被设在真空容器的侧壁上。

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

上述分离区域位于分离气体供给部件的上述旋转方向两 侧，并具有设置于上述顶板的顶面，该顶面用于在顶面与旋转 台之间形成用于使分离气体从上述分离区域流到处理区域侧的 狭窄的空间。

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有中心部区域，其为了分离上述第1处理区 域、第2处理区域的气氛而位于真空容器内的中心部，形成有将 分离气体喷出到上述旋转台的基板载置面侧的喷出口，

上述反应气体与扩散到上述分离区域的两侧的分离气体 和从上述中心部区域喷出的分离气体一起从上述排气口排出。