[发明专利]一种掺杂稀土元素的荧光粉及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910247542.8 申请日: 2009-12-30
公开(公告)号: CN101735815A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 曾雄辉;徐科;王建峰;任国强 申请(专利权)人: 苏州纳维科技有限公司
主分类号: C09K11/80 分类号: C09K11/80
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 215125 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 稀土元素 荧光粉 及其 制备 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及半导体材料领域,尤其涉及一种掺杂稀土元素的荧光粉及其制 备方法。

【背景技术】

第三代半导体材料GaN及其相关器件由于在光显示、光存储、激光打印、 光照明以及医疗和军事等领域有着广阔的应用前景,因此以GaN为代表的第 三代半导体材料被誉为IT产业新的发动机。

GaN是一种宽禁带半导体,其禁带宽度达3.4eV,因此在GaN中可以掺 入各种稀土离子,而不会发生发光猝灭。其他类似的III族氮化物也具有同样 的性质。稀土离子的发光波段可以覆盖从紫外到红外的区域,而且稀土离子的 发光跃迁主要产生于部分填满的4f能级之间跃迁,受晶体场环境影响较少, 发光峰尖锐,其色纯度较高。所以稀土掺杂的GaN材料在平板显示领域展现 出巨大的应用前景。稀土离子掺杂的氮化镓粉体由于容易和各种材料和器件集 成因此也受到了研究者的重视(”Green emission from Er-doped GaN powder”, 发表在”Applied Physics Letters”,2005,86,191918)。

稀土离子在掺入GaN基质后,一般取代的是Ga3+的晶格格位,而稀土离 子的半径普遍比Ga3+的半径要大,Ga3+的半径为62pm,而稀土离子半径处于 103.4pm(Ce3+)和84.8pm(Lu3+)之间。所以从离子半径匹配的角度来看,稀土 离子掺入后会引起较大的晶格畸变,毫无疑问,这种晶格畸变的产生,会在晶 体中引入较多的点缺陷,从而降低多晶粉料的发光性能。

【发明内容】

本发明所要解决的技术问题是,提供一种掺杂稀土元素的荧光粉及其制备 方法,能够改善由于稀土元素掺杂而引起的晶格畸变,进而提高荧光粉的发光 性能。

为了解决上述问题,本发明提供了一种掺杂稀土元素的荧光粉,包括由掺 杂有稀土元素的III族氮化物构成的多晶粉末,所述III族氮化物由氮原子和一 种III族元素组成,所述多晶粉末中进一步包括替位掺杂物,所述替位掺杂物 亦为一种III族元素或多种III族元素的组合,且替位元素的原子序数小于构成 多晶粉末的III族元素的原子序数,所述替位掺杂物在多晶粉末中替代原有的 III族元素形成替位缺陷。

作为可选的技术方案,所述构成多晶粉末的III族元素选自于Al、Ga和In 中的一种或多种,所述替位掺杂物中的元素选自于B、Al和Ga中的一种或多 种,且替位掺杂物中所含元素的原子序数均小于构成多晶粉末的III族元素的 原子序数。

作为可选的技术方案,所述替位掺杂物中所含元素的原子数目不大于稀土 元素的原子数目,且不小于稀土元素的原子数目的十分之一。

本发明进一步提供了一种上述荧光粉的制备方法,包括如下步骤:提供含 有X2O3、Re2O3与A2O3三种物质的粉末,其中Re代表Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、 Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm和Yb中的一种或多种,X选自于Al、Ga和 In中的一种,A选自于B、Al和Ga中的一种或多种,且A的原子序数小于X 的原子序数;将上述粉末在NH3气氛保护下处理,得到掺有元素Re和A的X 元素氮化物粉末。

作为可选的技术方案,所述提供含有X2O3、Re2O3与A2O3三种物质的粉 末进一步包括如下步骤:提供含有X2O3、Re2O3与A2O3三种物质的固形物; 将上述固形物溶解于硝酸中配成溶液;蒸发上述溶液得到干的硝酸盐粉体;将 上述粉体在氮气保护下处理,使硝酸盐分解,以获得含有X2O3、Re2O3与A2O3三种物质的粉末。

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