[发明专利]用于有机pin型发光二极管的结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910225792.1 申请日: 2006-04-13
公开(公告)号: CN101771134A 公开(公告)日: 2010-07-07
发明(设计)人: 米夏埃尔·霍夫曼;扬·比尔恩施托克;扬·布洛赫维茨-尼莫特;安斯加尔·维尔纳;梅尔廷·普法伊费尔;原田健太郎 申请(专利权)人: 诺瓦莱德公开股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张焕生;谢丽娜
地址: 德国德*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 有机 pin 发光二极管 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种有机pin型发光二极管结构,具有电极、反电极和位于所 述电极和反电极之间的有机叠层,其中所述有机叠层包括:

包含k种有机基质材料的发射层,k=1,2,3,...;

设置在所述电极和所述发射层之间的掺杂电荷载流子传输层;

设置在所述反电极和所述发射层之间的附加掺杂电荷载流子传输 层;和

设置在所述掺杂电荷载流子传输层和所述发射层之间的阻挡层,

其中,利用n种有机基质材料形成所述有机叠层的各层,n≤k+2, 其中所述n种有机基质材料包括所述发射层的k种有机基质材料,其 特征在于所述掺杂电荷载流子传输层、所述阻挡层和附加掺杂电荷载 流子传输层由第一有机基质材料制成,该第一有机基质材料包括在所 述n种有机基质材料中。

2.根据权利要求1的结构,其特征在于具有设置在所述附加掺杂 电荷载流子传输层和所述发射层之间的附加阻挡层。

3.根据权利要求2的结构,其特征在于所述附加阻挡层由所述第 一有机基质材料制成。

4.根据权利要求1的结构,其特征在于所述发射层有至少一层由 第一有机基质材料制成,并被设置为邻近于所述阻挡层和/或附加阻挡 层。

5.根据权利要求2的结构,其特征在于所述附加阻挡层由第二有 机基质材料制成。

6.根据权利要求5的结构,其特征在于所述发射层包括由第二有 机基质材料制成、并被设置为邻近于所述附加阻挡层的至少一层。

7.根据权利要求1的结构,其特征在于所述发射层有至少一层由 第三有机基质材料制成,和/或至少一层由第四有机基质材料制成。

8.根据权利要求1的结构,其特征在于所述发射层掺杂有至少一 种发射体材料。

9.根据权利要求8的结构,其特征在于至少一种发射体材料是荧 光体。

10.根据权利要求8的结构,其特征在于至少一种发射体材料是 磷光体。

11.根据权利要求1的结构,其特征在于所述电极和/或反电极由 透明材料制成。

12.根据权利要求1的结构,其特征在于对于倒装有机pin型发光 二极管,所述叠层和/或无阻挡层的叠层是以倒装结构来实施的。

13.根据权利要求1所述的结构,其特征在于对于非倒装有机pin 型发光二极管,所述叠层和/或无阻挡层的叠层是以非倒装结构来实施 的。

14.有机pin型发光二极管,具有至少一个根据前述权利要求的任 何一项所述的结构。

15.具有发光元件的发光器件,所述发光元件包括至少一个根据 权利要求1至13的任何一项所述的结构。

16.具有发光元件的自发光显示器件,所述发光元件具有至少一 个根据权利要求1至13的任何一项所述的结构。

17.显示器件,具有至少一个根据权利要求1至13的任何一项所 述的结构。

18.用于制造根据权利要求1至13的任何一项所述的有机pin型 发光二极管结构的有机叠层的方法,其中,借助于沉积设备处理第一 有机基质材料并且所述有机基质材料用于所述叠层的几个有机层,其 特征在于所述叠层的多个有机层是通过所述第一有机基质材料的沉积 而形成的,其中从包括在所述沉积设备中的单一蒸发源蒸发出所述第 一有机基质材料。

19.根据权利要求18的方法,其特征在于所述多个有机层通过所 述第一有机基质材料的沉积而形成,其中所述多个层的至少一部分的 连续基质由所述叠层中的所述第一有机基质材料形成。

20.根据权利要求19的方法,其特征在于,在由所述第一有机基 质材料形成所述连续基质期间,在中间步骤中,借助于掺杂材料的共 同蒸发来形成掺杂电荷载流子传输层,和/或形成阻挡层,和/或借助于 发射体材料的共同蒸发来形成发射层,和/或形成附加阻挡层,和/或借 助于附加掺杂材料的共同蒸发来形成附加掺杂电荷载流子传输层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺瓦莱德公开股份有限公司,未经诺瓦莱德公开股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910225792.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top