[发明专利]用于光刻设备的对准信号采集系统与对准方法有效

专利信息
申请号: 200910201611.1 申请日: 2009-10-12
公开(公告)号: CN102043341A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 李运峰;王海江;韩悦;胡明辉 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00;G01N21/64
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 设备 对准 信号 采集 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于光刻设备的对准信号采集系统,用以实现工件台相对于掩模台位置的确定,包括:

照明单元,用于提供紫外波长的激光脉冲;

掩模台;

掩模台位置测量单元;

掩模台控制单元,用于控制掩模台移动,并根据掩模台位置测量单元所获得的掩模台位置数据将掩模标记定位到特定位置;

投影物镜,用于对掩模标记进行成像;

工件台;

工件台位置测量单元;

工件台控制单元,用于控制工件台移动,并根据工件台位置测量单元所获得的工件台的位置数据将工件台标记定位到特定位置,并根据对准扫描参数进行水平运动;

光强采集单元,用于采集掩模标记的像扫描过工件台标记时透过的光强信号;以及

对准操作单元,用于控制对准扫描参数的下发、光强和位置的同步采样,实现由光强-位置采样对组成的对准信号的拟合处理和对准位置计算,其特征在于采用高斯函数作为对准信号拟合模型,该函数为:

I(xi)=Ae-(cxi-ab)2]]>

其中,xi为光强-位置采样对中的位置数据,I(xi)为光强-位置采样对中对应位置xi的光强数据,a、b、c和A为模型待定参数。

2.根据权利要求1所述的对准信号采集系统,其特征在于,所述照明单元包括激光器和控制组件,所述激光器产生激光脉冲,所述控制组件控制脉冲频率。

3.根据权利要求1所述的对准信号采集系统,其特征在于所述光强采集单元包括集成传感器和光强采集板。

4.根据权利要求3所述的对准信号采集系统,其特征在于所述集成传感器受到紫外波长的激光脉冲激发后产生可见波长段的荧光。

5.根据权利要求4所述的对准信号采集系统,其特征在于所述集成传感器包括光电探测器和放大环节,所述荧光经光电探测器转化为电信号,并经所述放大环节对信号进行放大。

6.根据权利要求3所述的对准信号采集系统,其特征在于所述光强采集板根据所述对准操作单元的时序控制,采集所述集成传感器探测到的光强数据。

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