[发明专利]具有均匀色度的薄膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种薄膜，特别涉及一种能应用于触控面板上，并且具有均匀色度的透明导电薄膜。

背景技术

现行使用于触控面板的氧化铟锡(ITO)透明导电膜，因为其镀膜制程温度低，而且材料本身在低波长波段的透过率较低而使膜层偏黄，造成面板的视感不佳。此外，ITO膜披覆形成后，为了作电路或电容配置，必须透过蚀刻制程将部分区块蚀刻移除，因此面板上对应于该ITO膜被蚀刻的部位，以及对应于没有被蚀刻的部位，将因为ITO材料的有无，造成明显的颜色差异，使面板表面颜色不均匀，并且造成表面蚀刻图案容易被观察到，进而影响面板的视感。

而人眼可见的颜色可以利用国际照明委员会(International Commission on Illumination，简称CIE)制定的CIE L^*a^*b^*色度空间来描述，所述b^*值可以为负值也可以为正值，当b^*为正值时，代表黄色，而且b^*值越大代表颜色越黄，一般而言，ITO膜的b^*值约为2～4而偏黄。

虽然改变ITO的膜厚可以改善膜层偏黄现象，但是为了在触控面板上作较佳的触控应用，ITO膜的阻抗值必须控制在一定范围，其膜厚就不能太厚而也必须控制在一定厚度，所以无法通过调整ITO膜本身的膜厚来改良薄膜偏黄现象。目前作法通常是改变位于ITO膜下方的抗反射膜层的特性，以改变整体薄膜的颜色均匀性，例如日本专利JP2003-171147、JP2007-299534及台湾专利TW200730933号专利案，都是利用多层不同折射率的抗反射膜层搭配，以调变薄膜整体色度与透光度，其它改良技术例如：JP2004-184579号专利案是利用五层光学膜的搭配来调变色度；JP2007-276332号专利案是利用高分子材料作为中间层；JP2008-49518是利用ZnO与低折射率层的配合。

然而，上述专利只是设法将薄膜的整体色度b*值降低，但是并未考虑ITO膜蚀刻后造成的蚀刻区块及非蚀刻区块的色彩不均匀性，因此当ITO膜蚀刻后，仍然会产生多个色彩不均匀的区块，并使蚀刻图案被清楚观察到。

发明内容

本发明的目的是提供一种减轻薄膜偏黄现象、色彩均匀、表面蚀刻图案不易被观察到的具有均匀色度的薄膜。本发明具有均匀色度的薄膜，包含：一基材，该基材包括反向间隔的一第一面与一第二面，所述具有均匀色度的薄膜更包含：一位于所述第一面及第二面的其中一表面的表面处理层，以及由邻近而远离该基材而披覆的一第一折射层、一第二折射层，以及一透明导电层，该第一折射层的光学厚度为d1，且11nm≤d1≤16nm，该第二折射层的折射率小于该第一折射层的折射率，而且该第二折射层的光学厚度为d2，且60nm≤d2≤90nm。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，该透明导电层的材料为氧化铟锡。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，12纳米≤d1≤15纳米。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，60纳米≤d2≤80纳米。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，该表面处理层邻近该基材的第二面，所述第一折射层、第二折射层及透明导电层是邻近该基材的第一面。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，该表面处理层邻近该基材的第一面，并且位于该基材及该第一折射层之间。

一种具有均匀色度的薄膜，包含：一个基材，以及由邻近而远离该基材而披覆的一第一折射层、一第二折射层，以及一透明导电层；

该第一折射层的光学厚度为d1，且20纳米≤d1≤29纳米，该第二折射层的折射率小于该第一折射层的折射率，而且该第二折射层的光学厚度为d2，且60纳米≤d2≤90纳米。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，该透明导电层的材料为氧化铟锡。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，22纳米≤d1≤28纳米。

根据本发明所述的具有均匀色度的薄膜，60纳米≤d2≤80纳米。

本发明的有益效果在于：通过所述第一、二折射层的光学厚度的配合，可以缩小该透明导电层的蚀刻区块及非蚀刻区块的色度差，使薄膜整体色彩均匀，蚀刻图案被模糊化而不易观察到，并减轻薄膜偏黄现象。