[发明专利]配线电路基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910167295.0 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN101667428A 公开(公告)日: 2010-03-10
发明(设计)人: 文逸何;田中壮宗;井上真弥;马丁·约翰·麦卡斯林 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G11B5/48 分类号: G11B5/48;H05K3/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 配线电 路基 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种配线电路基板,其包括:

第一绝缘层;

第一配线层,其形成在所述第一绝缘层上;

第二绝缘层,其以覆盖所述第一配线层的方式形成在所述 第一绝缘层上;

第二配线层,其形成在所述第二绝缘层上的所述第一配线 层的上方,该第二配线层与所述第一配线层构成信号线路对;

第一加强层,其具有导电性,其至少形成在所述第二配线 层的上表面上,且该第一加强层不形成在所述第一配线层的上 表面和所述第二配线层的下表面上,以及

第三绝缘层,其以覆盖所述第二配线层和所述第一加强层 的方式,形成在所述第二绝缘层上,

所述第一配线层的宽度比所述第一配线层的厚度大,所述 第二配线层的宽度比所述第二配线层的厚度大,

所述第一配线层和第二配线层中含有铜,所述第一加强层 含有铜和锡的合金。

2.根据权利要求1所述的配线电路基板,其特征在于,

所述第一加强层具有比所述第二配线层高的刚性,且具有 比所述第二配线层高的电阻率。

3.根据权利要求1所述的配线电路基板,其特征在于,

在所述第一绝缘层或者所述第二绝缘层上还具有隔开间隔 地形成的、构成信号线路对的第三配线层和第四配线层。

4.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于,

该配线电路基板至少还包括:

形成在所述第三配线层的至少一个表面上的导电性的第二 加强层;以及

形成在所述第四配线层的至少一个表面上的导电性的第三 加强层。

5.根据权利要求4所述的配线电路基板,其特征在于,

所述第二加强层和第三加强层具有比所述第三配线层和所 述第四配线层高的刚性。

6.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于,

所述第三配线层和所述第四配线层的间隔为10μm~100 μm。

7.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于, 该配线电路基板还包括:

长条状的金属基板;以及

磁头部,其设在所述金属基板上,用于进行信号的读写,

所述第一绝缘层形成在所述金属基板上,

所述第一~第四配线层与所述磁头部电连接,

在通过所述磁头部进行信号写入时电流流过第一配线层和 第二配线层,在通过所述磁头部进行信号读取时电流流过第三 配线层和第四配线层。

8.一种配线电路基板的制造方法,其包括:

在第一绝缘层上形成第一配线层的工序;

以覆盖所述第一配线层的方式在所述第一绝缘层上形成第 二绝缘层的工序;

在所述第二绝缘层上的所述第一配线层的上方形成第二配 线层的工序,该第二配线层与所述第一配线层构成信号线路对;

在所述第一配线层的上表面和所述第二配线层的下表面不 形成第一加强层而至少在所述第二配线层的上表面上形成导电 性的第一加强层的工序,以及

其以覆盖所述第二配线层和所述第一加强层的方式,在所 述第二绝缘层上形成第三绝缘层的工序,

所述第一配线层的宽度比所述第一配线层的厚度大,所述 第二配线层的宽度比所述第二配线层的厚度大,

所述第一配线层和第二配线层中含有铜,所述第一加强层 含有铜和锡的合金。

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