[发明专利]配线电路基板及其制造方法有效
申请号: | 200910167295.0 | 申请日: | 2009-09-02 |
公开(公告)号: | CN101667428A | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 文逸何;田中壮宗;井上真弥;马丁·约翰·麦卡斯林 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G11B5/48 | 分类号: | G11B5/48;H05K3/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 配线电 路基 及其 制造 方法 | ||
1.一种配线电路基板,其包括:
第一绝缘层;
第一配线层,其形成在所述第一绝缘层上;
第二绝缘层,其以覆盖所述第一配线层的方式形成在所述 第一绝缘层上;
第二配线层,其形成在所述第二绝缘层上的所述第一配线 层的上方,该第二配线层与所述第一配线层构成信号线路对;
第一加强层,其具有导电性,其至少形成在所述第二配线 层的上表面上,且该第一加强层不形成在所述第一配线层的上 表面和所述第二配线层的下表面上,以及
第三绝缘层,其以覆盖所述第二配线层和所述第一加强层 的方式,形成在所述第二绝缘层上,
所述第一配线层的宽度比所述第一配线层的厚度大,所述 第二配线层的宽度比所述第二配线层的厚度大,
所述第一配线层和第二配线层中含有铜,所述第一加强层 含有铜和锡的合金。
2.根据权利要求1所述的配线电路基板,其特征在于,
所述第一加强层具有比所述第二配线层高的刚性,且具有 比所述第二配线层高的电阻率。
3.根据权利要求1所述的配线电路基板,其特征在于,
在所述第一绝缘层或者所述第二绝缘层上还具有隔开间隔 地形成的、构成信号线路对的第三配线层和第四配线层。
4.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于,
该配线电路基板至少还包括:
形成在所述第三配线层的至少一个表面上的导电性的第二 加强层;以及
形成在所述第四配线层的至少一个表面上的导电性的第三 加强层。
5.根据权利要求4所述的配线电路基板,其特征在于,
所述第二加强层和第三加强层具有比所述第三配线层和所 述第四配线层高的刚性。
6.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于,
所述第三配线层和所述第四配线层的间隔为10μm~100 μm。
7.根据权利要求3所述的配线电路基板,其特征在于, 该配线电路基板还包括:
长条状的金属基板;以及
磁头部,其设在所述金属基板上,用于进行信号的读写,
所述第一绝缘层形成在所述金属基板上,
所述第一~第四配线层与所述磁头部电连接,
在通过所述磁头部进行信号写入时电流流过第一配线层和 第二配线层,在通过所述磁头部进行信号读取时电流流过第三 配线层和第四配线层。
8.一种配线电路基板的制造方法,其包括:
在第一绝缘层上形成第一配线层的工序;
以覆盖所述第一配线层的方式在所述第一绝缘层上形成第 二绝缘层的工序;
在所述第二绝缘层上的所述第一配线层的上方形成第二配 线层的工序,该第二配线层与所述第一配线层构成信号线路对;
在所述第一配线层的上表面和所述第二配线层的下表面不 形成第一加强层而至少在所述第二配线层的上表面上形成导电 性的第一加强层的工序,以及
其以覆盖所述第二配线层和所述第一加强层的方式,在所 述第二绝缘层上形成第三绝缘层的工序,
所述第一配线层的宽度比所述第一配线层的厚度大,所述 第二配线层的宽度比所述第二配线层的厚度大,
所述第一配线层和第二配线层中含有铜,所述第一加强层 含有铜和锡的合金。
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