[发明专利]一种放射性同位素中子源及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910084225.9 申请日: 2009-05-15
公开(公告)号: CN101562058A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 张名程 申请(专利权)人: 北京树诚科技发展有限公司
主分类号: G21G4/02 分类号: G21G4/02
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 刘春生
地址: 100048北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 放射性同位素 中子源 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种制备放射性同位素中子源的方法,其特征在于,包括以下步骤:

a.称量配料:将二氧化镅和/或二氧化钚与金属铍进行称量,其中所述二氧化镅和/或二氧化钚的重量与金属铍的重量比为1∶6~1∶10;对助熔剂进行称量;

b.混合研磨:将上述称量出的物料先经初步混合,再进行球磨;所述初步混合在密闭环境下进行并同时加入所述助熔剂,初步混合完成后在密闭环境下放置3~4小时,所述球磨时间为10~12小时,且球磨完成后加入粘合剂并搅拌均匀;

c.压制成型:将上述混合研磨后的物料压制成所需形状;

d.烧结陶瓷:将上述所制成的物料进行烧结,制成陶瓷;

e.封装入壳:将上述烧结后的陶瓷体源芯封装入外壳中。

2.如权利要求1所述的制备放射性同位素中子源的方法,其特征在于,所述压制成型步骤中使用油压机和钢模压制成型。

3.如权利要求1所述的制备放射性同位素中子源的方法,其特征在于,所述烧结陶瓷步骤按以下操作烧结:

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