[发明专利]二氧化钛薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200910052448.7 申请日: 2009-06-03
公开(公告)号: CN102173450A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 黄富强;吕旭杰;吴建军 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C01G23/053 分类号: C01G23/053;H01G9/20;B01J21/06;B01J37/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 氧化 薄膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,配制稳定的钛前驱体溶液,通过旋涂或浸渍提拉法在衬底上制备二氧化钛湿膜,最后干燥热处理得到二氧化钛薄膜。

2.按权利要求1所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,钛前驱体溶液中加入掺杂离子溶液进行金属离子掺杂。

3.按权利要求1或2所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,所述的配制稳定的钛前驱体溶液包括钛前驱物、碱溶液和过氧化氢中,钛前驱物∶碱溶液∶过氧化氢为摩尔比(0.1~100)∶1∶(0.1~10)。

4.按权利要求3所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,所述的其中碱溶液包括氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、氢氧化锂溶液、氢氧化铯溶液、氨水中任意一种或几种的混合溶液。

5.按权利要求3所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,所述的钛前驱物采用单质钛、二氧化钛、氢氧化钛,正钛酸、偏钛酸、硝酸钛、硫酸钛、钛黄、卤化钛、羧酸钛或钛醇盐。

6.按权利要求1或2所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,所述的衬底包括普通玻璃,石英玻璃,硅衬底,各种金属、陶瓷、有机衬底,以及FTO、ITO、AZO、ZnO:B、ZnO:Ga、ZnO:In、Cd2SnO4、Zn2SnO4、TiO2:Nb、SrTiO3:Nb、CuS、CuAlO2或CuAlS2透明导电玻璃。

7.按权利要求1或2所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,所述热处理的条件为150~1000℃热处理1~24小时。

8.按权利要求2所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,掺杂离子浓度范围在0.01~30%。

9.按权利要求2或8所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,掺杂离子包括Nb、Ta、Fe、Ni、Co或Mn。

10.按权利要求2或8所述的二氧化钛薄膜的制备方法,其特征在于,掺杂离子溶液加入的金属盐包括可溶性硝酸盐、硫酸盐、磷酸盐、羧酸盐、草酸盐或卤化物。

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