[发明专利]透射电子显微镜检测样片的制备方法

权利要求书

1.一种透射电子显微镜检测样片的制备方法，其特征在于，包括：

提供初始透射电子显微镜检测样片；

在该初始透射电子显微镜检测样片上沉积阻碍层；

在阻碍层上沉积电子束辅助层；以及

在电子束辅助层上沉积离子束辅助层。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述阻碍层的材质为铂、铂-钯合金、钯、金或铬。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述阻碍层完全覆盖所述初始透射电子显微镜检测样片表面。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用物理气相沉积工艺沉积所述阻碍层。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括根据初始透射电子显微镜检测样片的材质获得阻碍层厚度的步骤。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括获得阻碍层厚度的步骤，该步骤具体包括：

根据初始厚度沉积阻碍层；

判断沉积该厚度阻碍层后制备得到的透射电子显微镜检测样片是否符合预定要求；以及

在符合时，将该初始厚度确定为阻碍层厚度；否则，调整所述初始厚度直至制备到的透射电子显微镜检测样片符合预定要求。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述初始透射电子显微镜检测样片为聚合物掩膜。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，沉积的阻碍层厚度大于20纳米。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述阻碍层材质为铂，并采用物理气相沉积工艺沉积所述阻碍层；以及

该沉积工艺的具体工艺条件包括：直流电压为0.4千伏；真空压强为6帕斯卡；且样片距离为30毫米。