[发明专利]无掩模曝光方法

说明书

技术领域

以下说明总体上涉及无掩模曝光方法。

背景技术

近来，随着信息社会的迅速发展，出现了对于具有诸如厚度薄、重 量轻和功耗低的优异特性的平板显示器(FPD)的需要。

为了满足这种需要，已经开发了诸如液晶显示器(LCD)、等离子 体显示板(PDP)、电致发光显示器(ELD)和真空荧光显示器(VFD) 的图像显示板。

在这些板中，LCD板由于其优异的分辨率、色彩显示能力和图像 质量而经常用于笔记本计算机或台式监视器。

同时，随着根据客户需要而扩大板，开发了各种处理设备，并且开 发了利用新技术的设备。

具体地说，曝光装置对于在各显示板中形成图案是必要的，并且执 行从照明装置接收光并使得该光透射过光掩模的图案以在要曝光的层 上成像从而对该层进行曝光的功能。

图1是例示了传统曝光处理的示意性截面图。根据光掩模20的图 案，从光源10发出的光照射到基板40的上部上的光敏层30，从而根 据该图案形状对光敏层30进行曝光。

在该传统的曝光处理中，当曝光区域为较大区域时，需要多个发光 装置来对该较大区域进行曝光。然而，存在如下问题：由于这些发光装 置之间产生光强度偏差，导致不能执行精确的曝光处理。

发明内容

技术问题

本公开的目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够利用无掩模曝光 部的第一图案和主基准单元(MRU)的第二图案来执行更精确的光学 对准。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够通过提供对准照相 机来对准数字微镜器件(DMD)、多阵列透镜(MAL)和MRU的光学 中心。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够利用具有从DMD反 射的第一图案和MRU的第二图案的光来校正DMD和MAL的角度、 投影透镜的缩放率、投影透镜的Y轴和X轴之间的间隔，以进行曝光。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够减小阈值光量以校正 临界尺寸(CD：Critical Dimension)，使得经曝光的图案的CD在基准 CD范围内，由此减少在经曝光的图案中产生模糊。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够测量曝光部的强度并 产生能够翻转DMD的一些像素的空白图像，由此利用该空白图像来去 除光强度偏差并减少经曝光的图案中的模糊的产生。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够对用无掩模曝光部进 行了扫描的台的迹线进行再划分，提取无掩模曝光部在再划分位置处的 焦距，并在保持在再划分位置处提取的焦距的同时在再划分位置处执行 曝光，由此即使排列了多个曝光部也可以在防止机械干扰的同时设定焦 点。

另一目的是提供一种无掩模曝光方法，其能够使曝光图案交叠，从 而在交叠曝光区域中通过抵消强度特性而使得光强度均匀，由此去除经 曝光的图案中的模糊。

技术方案

在一个总的方面，一种无掩模曝光方法包括以下步骤：

制备无掩模曝光部，该无掩模曝光部包括：光源，其用于投射光； 空间光调制器(SLM)，其用于将从所述光源投射的光反射为具有第一 图案的光；多阵列透镜(MAL)，其排列有多个透镜以将从所述SLM 反射的具有所述第一图案的光分成多个光，并对分出的光进行集光；以 及投影透镜，其用于控制由所述MAL集光的光的分辨率(resolution) 并透射所得到的光；

将来自所述无掩模曝光部的所述第一图案的光照射到主基准单元 (MRU)，该MRU由透光材料形成并形成有不透射具有所述第一图案 的光的第二图案；

在MRU照相机处对透过所述MRU的光进行拍摄；

利用由所述MRU照相机拍摄的图像中表示的所述第一图案和所述 第二图案来计算未对准误差；以及

移动并对准所述MAL或所述SLM，以校正所述未对准误差。

有效效果

根据本公开，存在以下优点：能够利用无掩模曝光部的第一图案和 MRU的第二图案来执行更精确的光学对准。

另一个优点在于，提供了能够对准DMD、MAL和MRU的光学中 心的对准照相机。

附图说明

图1是例示了传统曝光处理的示意性截面图。

图2是例示了根据本公开第一实施方式的无掩模曝光装置的示意 性结构图。