[发明专利]无掩模曝光方法

权利要求书

1.一种无掩模曝光方法，所述无掩模曝光方法包括以下步骤：

制备无掩模曝光部，该无掩模曝光部包括：光源，其用于投射光； 空间光调制器，其用于将从所述光源投射的光反射为具有第一图案的 光；多阵列透镜，其排列有多个透镜以将从所述空间光调制器反射的具 有所述第一图案的光分成多个光，并对分出的光进行集光；以及投影透 镜，其用于控制由所述多阵列透镜集光的光的分辨率并透射所得到的 光；

将来自所述无掩模曝光部的所述第一图案的光照射到主基准单元， 所述主基准单元由透光材料形成并形成有不透射具有所述第一图案的 光的第二图案；

在主基准单元照相机处对透过所述主基准单元的光进行拍摄；

利用由所述主基准单元照相机拍摄到的图像中表示的所述第一图 案和所述第二图案来计算未对准误差；以及

移动并对准所述多阵列透镜或所述空间光调制器以校正所述未对 准误差。

2.根据权利要求1所述的无掩模曝光方法，其中，在利用由所述主 基准单元照相机拍摄到的图像中表示的所述第一图案和所述第二图案 来计算未对准误差的步骤中，

根据由所述主基准单元照相机拍摄到的图像来计算针对所分出的 各个区域的亮度的重心，并根据计算出的重心来计算所述未对准误差。

3.根据权利要求1所述的无掩模曝光方法，其中，所述空间光调制 器是数字微镜器件。

4.根据权利要求3所述的无掩模曝光方法，其中，所述无掩模曝光 部还设置有用于对准所述数字微镜器件、所述多阵列透镜和所述主基准 单元的光学中心的作为基准的对准照相机，并且

其中，所述无掩模曝光方法在移动并对准所述多阵列透镜或所述空 间光调制器以校正所述未对准误差的步骤之后还包括以下步骤：

使所述数字微镜器件、所述多阵列透镜和所述主基准单元的光学中 心与第一轴(P1)一致；

通过沿曝光扫描方向移动所述主基准单元照相机，使所述对准照相 机和所述主基准单元的光学中心与第二轴一致；以及

测量所述第一轴(P1)与所述第二轴(P2)之间的偏差，并利用 所述偏差来校正所述数字微镜器件、所述多阵列透镜和所述主基准单 元，使得所述数字微镜器件、所述多阵列透镜和所述主基准单元的光学 中心彼此一致。

5.根据权利要求3所述的无掩模曝光方法，其中，所述无掩模曝光 方法在移动并对准所述多阵列透镜或所述空间光调制器以校正所述未 对准误差的步骤之后还包括校正所述数字微镜器件、所述多阵列透镜和 所述主基准单元的未对准的步骤。

6.根据权利要求5所述的无掩模曝光方法，其中，在所述校正步骤 中，

将条纹图案输入所述数字微镜器件，至少两次执行用于曝光的扫 描，测量各个扫描图案的误差，并利用所述误差来校正所述数字微镜器 件和所述多阵列透镜的角度。

7.根据权利要求5所述的无掩模曝光方法，其中，在所述校正步骤 中，

沿45度方向从所述数字微镜器件照射至少两个十字形图案，并通过 所述十字形图案与所述主基准单元的所述第二图案的比较来校正所述 投影透镜的缩放率。

8.根据权利要求5所述的无掩模曝光方法，其中，所述无掩模曝光 部设置有多个，并且

其中，在所述校正步骤中，

从所述多个无掩模曝光部的所述投影透镜投射具有相同图案的光， 利用所述光对一层进行曝光，测量形成在所述层上的各个图案的位置误 差和角度误差，并基于测量误差来校正所述投影透镜的扫描轴的间隔。