[发明专利]用于等离子体处理装置的组合喷淋头电极组件的清洁硬件套件

权利要求书

1.一种用于清洁等离子体反应室的组合喷淋头电极的清洁套件，

其中该组合喷淋头电极包括粘着于铝支承板的硅板，该套件包含：

电极载台，其支撑该组合喷淋头电极，该硅板朝上；

处理支架，其具有底部和多个啮合该电极载台并支撑该电极载台的支柱；

固定于该电极载台的第一侧的第一板和一个或多个固定构件，该固定构件啮合该铝支承板以支撑该组合喷淋头电极，该硅板露出以对其进行清洁；

第二板，其固定于该电极载台的该第一侧以便该第一板位于该第二板和该组合喷淋头电极之间的空间，该第二板包括啮合该电极载台的该第一侧的密封垫以及进气口，通过该进气口将气体在一定压强下引入以使其流入该铝支承板中的气孔并流出该硅板中的相应气孔，该第二板在对该硅板的暴露表面的进行酸清洗的过程中允许气体流过该气孔；

第三板，其固定于该电极载台的第二侧，该硅板朝上，该第三板包括啮合该电极载台的密封垫和进水口，通过该进水口将水在一定压强下引入，以使其流入该硅板中的气孔并流出该铝支承板中的相应气孔，该第三板允许低压水流过该气孔以在清洁该硅板的暴露表面之后用水漂洗该组合喷淋头电极；

干燥支架，其具有底部框架和多个柱，该底部框架支撑该电极载台和该组合喷淋头电极以便可以将该电极载台从该组合喷淋头电极移除而不用手接触该组合喷淋头电极；

第四板，其包括啮合该底部框架的密封垫和进气口，通过该进气口将气体在一定压强下引入，以流入该硅板中的气孔并流出该铝支承板中的相应气孔，该第四板允许气体在水漂洗步骤之后干燥该组合喷淋头电极。

2.根据权利要求1所述的套件，其中该电极载台包含由至少一个紧固件固定起来的第一和第二部件，该第一和第二部件包括适于围绕该组合喷淋头电极外侧的内周，以及一个或多个向内延伸的凸块，其啮合该铝支承板的暴露表面。

3.根据权利要求2所述的套件，其中该第一部件包括向外延伸的凸起部，在该凸起部中的横向延伸的开口和支撑在该开口中的指旋螺丝，该第二部件包括向外延伸的具有螺纹开口的凸起部，该螺纹开口接收该指旋螺丝以将该第一和第二部件固定起来，该电极载台包括相对的把手以允许手动提起该电极载台，该电极载台上支撑有该组合喷淋头电极，该一个或多个凸块包含三个在第一部件上的凸块和三个在该第二部件上的凸块，该处理支架包括三个柱，且该电极载台在其每一侧包括至少三个孔，该三个孔配置为接收该处理支架的该三个柱的末端。

4.根据权利要求1所述的套件，其中该电极载台在其内周包括多个纵向延伸的狭槽，该狭槽与环形延伸的凹沟连通，且该第一板包括多个凸缘，该多个凸缘配置为在该狭槽内纵向移动并在该第一板相对于电极载台旋转时在该凹沟内滑动，该一个或多个固定构件包含指旋螺丝，其可以被螺入该铝支承板中的螺纹开口。

5.根据权利要求4所述的套件，其中该第一板包括四个凸缘和四个指旋螺丝。

6.根据权利要求1所述的套件，其中该第二板包括多个纵向延伸的锁定凸缘，该锁定凸缘在其下端具有环形延伸的凸轮表面，该电极载台在其外周上包括多个纵向延伸的狭槽，该锁定凸缘配置为沿着该狭槽纵向移动，且该凸轮表面配置为当该第二板相对于该电极载台旋转时啮合该电极载台的该第二侧并压紧该密封垫。

7.根据权利要求6所述的套件，其中该第二板在其相对两侧包括向外突出的一对把手。

8.根据权利要求1所述的套件，其中该第三板包括多个纵向延伸的锁定凸缘，该锁定凸缘在其下端具有环形延伸的凸轮表面，该电极载台在其外周上包括多个纵向延伸的狭槽，该锁定凸缘配置为沿着该狭槽纵向移动，且该凸轮表面配置为当该第三板相对于该电极载台旋转时啮合该电极载台的该第一侧并压紧该密封垫。

9.根据权利要求1所述的套件，其中该底部框架包括四个柱，该柱在其末端有螺纹竿，且该第四板包括四个有开口的臂，该臂中的该开口沿着该柱滑动，该套件包括四个手螺母，其啮合该螺纹竿以便向下压该臂以将该第四板密封到该底部框架。

10.根据权利要求9所述的套件，其中该底部框架包括尺寸与该组合喷淋头电极相近的中心开口和多个支承构件，该支撑构件从该底部框架的上表面向上纵向延伸以啮合该铝支承板，该多个支柱和该电极载台配置为允许从该组合喷淋头电极移除该电极载台。