[发明专利]等离子体处理装置、供电装置及等离子体处理装置的使用方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，利用电磁波激发气体，对被处理体进行 等离子体处理，具备：

处理容器；

输出电磁波的电磁波源；

传输从所述电磁波源中输出的电磁波的传输线路；

多个电介质板，其设于所述处理容器的内壁上，使电磁波透过，释 放到所述处理容器的内部；

多个导体棒，其与所述多个电介质板相邻或接近，使电磁波传输到 所述多个电介质板；

分支部，其将沿所述传输线路传输来的电磁波分成多个电磁波，向 所述多个导体棒传输，

所述多个导体棒中的1个或2个以上的导体棒与各电介质板相邻或 接近，

所述传输线路包括多个第一同轴管和与所述多个电介质板大致平 行地配置的至少一个第三同轴管，该多个第一同轴管的内部导体与各个 所述第三同轴管的内部导体连接，

所述多个第一同轴管分别经由所述分支部向所述多个导体棒传输 电磁波。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述分支部是 将所述第一同轴管的内部导体和导体棒分别连接的分支构件。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述分支部是 在内部插入了所述第一同轴管的内部导体和所述多个导体棒的分配波 导管。

4.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述多个导体 棒在相互大致平行的状态下相对于所述第一同轴管的内部导体的中心 轴等间隔地配置于同一圆周上。

5.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，所述多个导体 棒在相互大致平行的状态下相对于所述第一同轴管的内部导体的中心 轴配置于点对称的位置上。

6.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，具备使所述处 理容器的盖部与所述各导体棒短路的短路部，

将从所述分支构件与各导体棒相连接的位置到所述短路部的长度 设计为，相对于在所述各导体棒中传输的电磁波的波长λg大致为λ g/4。

7.根据权利要求6所述的等离子体处理装置，其中，所述多个导体 棒在所述短路部中相对于所述处理容器的盖部能够滑动地卡合。

8.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其中，具备使所述处 理容器的盖部与所述各导体棒短路的短路部，

所述处理容器的盖部的端部包括所述分配波导管的长度方向的端 部、或在所述分配波导管的两端形成L字形的端部的任一个，

将从所述各导体棒到所述处理容器的盖部的端部的长度设计为，相 对于在所述分配波导管中传输的电磁波的管内波长λg大致为λg/4。

9.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其中，在所述分支部 的分支部分，设置了用于取得阻抗匹配的电介质体。

10.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，与所述第三同 轴管的内部导体连接的所述多个第一同轴管的内部导体，相对于在所述 第三同轴管中传输的电磁波的管内波长λg、整数n₂，以大致n₂×λg/2 的间隔配置，其中n₂为1以上。

11.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，

所述传输线路还包括多根第四同轴管，

所述第四同轴管的各自的内部导体与所述第三同轴管的各自的内 部导体连接，

将位于所述多根第一同轴管的内部导体的上层的所述多根第四同 轴管的内部导体相对于整数n₂，以大致n₂×λg/2的间隔配置，其中n₂为1以上，

其中，λg为在所述第三同轴管中传输的电磁波的管内波长λg。

12.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，在所述电磁波 源上，连接有将双分支重复1次以上的具有竞赛式的结构的分支波导管。