[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法及蒸镀装置的制造方法有效
| 申请号: | 200880003779.5 | 申请日: | 2008-01-30 |
| 公开(公告)号: | CN101600815A | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
| 发明(设计)人: | 周藤贤治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李 伟;舒艳君 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 方法 制造 | ||
1.一种蒸镀装置,在处理容器内通过蒸镀对被处理体进行成膜处理, 其特征在于,具有:
多个蒸镀源,其收纳成膜材料,并使收纳的成膜材料分别气化;
多个喷出机构,其分别连接于所述多个蒸镀源,并具有喷出口,从所 述喷出口分别喷出在所述多个蒸镀源被气化的成膜材料;以及
1个或2个以上的隔壁,其配置于所述多个喷出机构中的相邻的喷出 机构之间,将所述相邻的喷出机构分别隔开,
所述1个或2个以上的隔壁配置为满足:从设置于所述相邻的喷出机 构中的喷出口呈放射状扩散的成膜材料中的、未被所述各隔壁遮挡而直行 到达被处理体的最长飞行距离的成膜材料的到达位置,比在多个喷出机构 排列方向的截面中到所述相邻的喷出机构等距离的被处理体上的位置更 靠近喷出所述最长飞行距离的成膜材料的喷出口侧,并且所述成膜材料的 最长飞行距离比所述成膜材料的平均自由行程短这两个条件。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述多个喷出机构 具有相同的形状并被等间隔、平行地配置,所述1个或2个以上的隔壁具 有相同的形状,并被等间隔、平行地配置在所述相邻的喷出机构之间且到 所述相邻的喷出机构等距离的位置。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,各隔壁和与该各隔 壁相邻的喷出机构的面之间互相对置的面大于所述相邻的喷出机构的面。
4.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述处理容器内的 压力为0.01Pa以下。
5.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述各隔壁以如下 进行配置:从所述各隔壁到被处理体的间隙G、从各喷出口到各隔壁上面 的高度T、所述各隔壁的厚度D及从各蒸镀源的中心位置到所述各隔壁的 中心位置的距离E的关系为E<(G+T)×D/2G。
6.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置以有 机EL成膜材料或者有机金属成膜材料为有机材料,在被处理体上形成有 机EL膜或者有机金属膜中的任一方。
7.一种蒸镀方法,在处理容器内通过蒸镀对被处理体进行成膜处理, 其特征在于,
使收纳在多个蒸镀源的成膜材料分别气化;
从分别连接于所述多个蒸镀源的多个喷出机构的喷出口分别喷出在所 述多个蒸镀源被气化的成膜材料;和
边通过配置于所述多个喷出机构中的相邻的喷出机构之间的、将所述 相邻的喷出机构分别隔开的1个或2个以上的隔壁抑制由各喷出口喷出的 成膜材料越过各隔壁而飞到邻近的喷出口侧的情况,边由被气化的成膜材 料在被处理体上连续地形成膜,
所述1个或2个以上的隔壁配置为满足:从设置于所述相邻的喷出机 构中的喷出口呈放射状扩散的成膜材料中的、未被各隔壁遮挡而直行到达 被处理体的最长飞行距离的成膜材料的到达位置,比在多个喷出机构排列 方向的截面中到所述相邻的喷出机构等距离的被处理体上的位置更靠近 喷出所述最长飞行距离的成膜材料的喷出口侧,并且所述成膜材料的最长 飞行距离比所述成膜材料的平均自由行程短这两个条件。
8.根据权利要求7所述的蒸镀装置的制造方法,其特征在于,所述各 隔壁以如下方式配置:由所述各隔壁到被处理体的间隙G、由各喷出口到 各隔壁上面的高度T、所述各隔壁的厚度D及从各蒸镀源的中心位置到所 述各隔壁的中心位置的距离E的关系为E<(G+T)×D/2G。
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