[实用新型]一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置

权利要求书

1、一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，包括放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室组成，其特征在于：放卷室和收卷室分别位于设备的首末两端，放卷室和收卷室分别与一个张力控制室连接，放卷室一端的张力控制室连接有预处理室，预处理室和收卷室一端的张力控制室之间设置有至少一个工艺室，上述的放卷室、收卷室的一端及张力控制室、预处理室、工艺室的两端均设置有相同规格的法兰盘，并通过法兰盘依次连接上述放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室为一体，所述的放卷室、张力控制室、预处理室、工艺室、收卷室均为真空室，所述的放卷室、张力控制室、预处理室、工艺室、收卷室中均设有传输使用的辊。

2、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的放卷室中设置有低温吸附阱，其中部设置有放置被镀膜带材的辊、放卷室内腔与真空系统即真空泵连接。

3、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的收卷室同样设有放置带材的收卷辊，收卷室内腔与真空系统即真空泵连接。

4、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的两个张力控制室中内腔连接真空系统即真空泵连接。且其内腔中水平设置有由三个辊构成的三角形张力控制装置。

5、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的预处理室中设置有离子源，其空腔中连接真空系统即真空泵连接。

6、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的工艺室中设置有一组中频靶，其中设置有三个辊，中频靶位于位于中部的主辊的上方，其空腔中连接真空系统即真空泵连接，且设置在其中的辊为水冷辊。

7、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的工艺室中部设有工艺室隔离板将工艺室分隔成上下两个室，该隔离板为平板形状，且为两个相对设置将工艺室分隔成两个独立腔体，该隔离板全部或者至少接触部分使用柔软的弹性的材料制成，一对隔离板对置的缝隙由柔软的弹性材料封闭，该缝隙与带材通过位置相应且带材由缝隙中通过，上述的镀制带材的入口在工艺室的下方，带材接触隔板处有柔性材料，防止膜层划伤。

8、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的工艺室为一个以上，可以根据所镀膜层的不同，任意调整工艺室的个数，满足镀制不同膜层的工艺需求，最佳的镀的镀膜工艺采用四个工艺室，其中第一个室中的中频靶分别为不锈钢靶或钼靶；第二个室中的中频靶均设置为铝靶；第三个室中同样设置铝靶；第四个室中同样为铝靶。

9、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的末端张力控制室和工艺室之间设置有检测纠偏室，其中设置有太阳吸收率和发射率多点连续检测设备和校正带材走偏的装置以及输送带材的辊。

10、根据权利要求1所述的一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置，其特征在于：所述的放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、多个工艺室两端至少有一端设置有隔离板，该隔离板全部或者至少接触部分使用柔性的弹性的材料制成，一对隔离板对置的缝隙由弹性材料密闭，该缝隙与带材通过位置相应且带材由缝隙中通过。