[实用新型]一种低寄生电容的电容触控板有效

专利信息
申请号: 200820210143.5 申请日: 2008-11-14
公开(公告)号: CN201293984Y 公开(公告)日: 2009-08-19
发明(设计)人: 林怡诚 申请(专利权)人: 盛群半导体股份有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁 挥;张燕华
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 寄生 电容 触控板
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电容触控板,尤其涉及一种降低寄生电容呈现电厂均匀特性的电容触控板。

背景技术

目前电容式触控面板上大多采用的型状如菱型,方型,圆型,梳型或螺旋型。

但若将触控装置设置于液晶显示器面板上时因面板上是利用ITO导体镀膜构成电容,因液晶显示器在镀时无法像印刷电路板可进行贯孔,故会再镀上一层绝缘介质或是铺上一绝缘介质层后再镀上第二层导体。

因数组式电容势必会有导线互相交错,因此交错部分容易构成相当高的寄生电容,此寄生电容容易影响触控特性,其次在传统菱形设计上若设计在液晶显示器面板上会导致边缘处的感测按键被切除,此部分也容易导致电场分布不均现象发生。

在旧有表面电容设计采用的螺旋型,梳型或蛇型等架构(如图1),因旧有架构中有太多转折角,因此易导致磁滞损与能量累积无法有效放射出去让电场面扩大,且在液晶显示器ITO镀膜工艺上不良率高,故在液晶显示器ITO镀膜上没被采用,目前电容式触控装置最常采用的图型为菱型(如图2),因此图型架构简单且耦合电容值高故广泛被使用但若是使用于液晶显示器上则将不太适合,主要原因是在液晶显示器面板边缘处将被裁切掉,故液晶显示器面板采用此图型后,边缘处的感应程度将会降低。(如图3)

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于,提供一种电容触控板,尤其是关于一种降低寄生电容呈现电厂均匀特性的电容触控板,其可改善现有技术中寄生电容高且电厂不均匀的现状。

本实用新型提供的电容触控板,其可降低寄生电容,可呈现电厂均匀特性,其至少包括有:

一底基层;一感应层;以及一表面层;其中该底基层、该感应层、该表面层叠接成一透明板体;且该感应层含有呈矩阵交错设置的多个x轴线迹及y轴线迹及一多组凹槽并形成一多组的单键;其中上述该多组凹槽可供多个x轴线迹及y轴线迹交错设置。该不同轴交会处其线距缩小,可达原等效寄生电容值的一半。

以下结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细描述,但不作为对本实用新型的限定。

附图说明

图1为现有技术的表面电容设计的示意图;

图2为现有技术的表面电容设计的另一示意图;

图3为现有技术的表面电容设计的另一示意图;

图4为用于本实用新型的第一实施例的剖面图;

图5为用于本实用新型的第二实施例的示意图;以及

图6为用于本实用新型的第三实施例的示意图。

其中,附图标记

401    底基层

402    感应层

403    表面层

404    透明板体

501    单键方型

502    轴交会处

601    菱形

602    轴交会处

具体实施方式

兹配合下列的附图式说明本实用新型的详细结构,及其连结关系,以利于了解本实用新型。

请同时阅图4所示,为本实用新型的第一实施例的剖面图,其包括一电容触控板,其可降低寄生电容,可呈现电厂均匀特性,其至少包括有:

一底基层401;一感应层402;以及一表面层403;其中该底基层401、该感应层402、该表面层403叠接成一透明板体404。

请参阅图5所示,为本发明的第二实施例,其利用常见的单键方型501进行改良,不同处在于不同轴交会处502缩短线轴,减少寄生电容值,并且因此型状为方型变型故电场场量将达到均匀状态,不易导致触控灵敏度不均现象发生。

请参阅图6所示,为本发明的第三实施例,其利用菱型变形,将菱型601转置角度并以交错方式进行排列,不同轴交会处602依旧缩短线轴,如此可达到电场外围均匀及不被液晶显示器切边的现象发生。

当然,本实用新型还可有其它多种实施例,在不背离本实用新型精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于盛群半导体股份有限公司,未经盛群半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200820210143.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top