[实用新型]真空离子镀膜机有效
申请号: | 200820200629.0 | 申请日: | 2008-09-13 |
公开(公告)号: | CN201265040Y | 公开(公告)日: | 2009-07-01 |
发明(设计)人: | 苏东艺 | 申请(专利权)人: | 苏东艺 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 江门嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 谭志强 |
地址: | 510520广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 离子 镀膜 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种真空离子镀膜机。
背景技术
目前使用的真空离子镀膜机中,使挂件公转的上转架2通过连接在真空镀膜室1内的周向轴与轴承组7来固定其周向位置,再由其下方的支撑轴与轴承组8来支撑,其中固定、支撑用的轴通过螺栓连接在真空镀膜室内,其结构如图4所示。这样的结构会带来以下缺点:
1、由于真空镀膜室的环境限制,轴承不能使用润滑脂,会使得旋转摩擦过大,特别在连续旋转发热时,轴承容易卡死,影响上转架的旋转;
2、真空镀膜室内温差较大,原件的热胀冷缩较明显,而轴与轴承配合的精度要求较高,对温度敏感,热胀冷缩会影响轴承寿命,甚至卡死轴承;
3、轴通过螺栓连接在真空镀膜室内,长期旋转会使得螺栓松动,不利于上转架的固定。
发明内容
针对上述问题,本实用新型的目的在于提供一种使得上转架的连接、旋转更稳定,结构更合理的真空离子镀膜机。
本实用新型解决其问题所采用的技术方案是:
真空离子镀膜机,包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴,其特征在于:所述真空镀膜室内设有滚珠机构支撑上转架。
其中的滚珠机构包括固定在上转架下方的承接架,所述承接架上面分布有滚珠支撑上转架。
进一步,承接架上开设有若干圆槽,滚珠放置于圆槽内支撑上转架。
作为优选方式,滚珠分布于承接架上端一定距离的圆周上。
此外,所述滚珠机构还包括通过螺栓固定在真空镀膜室内限制上转架周向位置的固定轴组,所述固定轴组的外侧面与上转架内侧面相抵。
其中的固定轴组包括用螺栓固定在真空镀膜室内的固定轴,固定轴下端设有凸起台阶,台阶上套置有轴套,所述轴套外侧面与上转架内侧面相抵,
进一步,轴套内设有滚珠围绕固定轴;其中,轴套内滚珠的上、下端设有承接滚珠的上、下导套,而且所述上、下导套与滚珠相接触面设有凹槽。
本实用新型的有益效果是:真空镀膜室内的上转架取消了轴承固定,而采用下方的滚珠支撑,起到了很好的固定效果,在不能使用润滑脂的环境下,滚珠能保证滑动较易,并且平均分布的滚珠能保证支撑上转架转动平稳,此外,这样的结构有一定膨胀裕度,且滚珠耐热性好,可适应热胀冷缩环境,不容易损坏;本实用新型使得上转架的固定结构更为简单合理。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:
图1是本实用新型真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图;
图2是承接架与滚珠的结构示意图;
图3是固定轴组的结构示意图;
图4是现有的真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图。
具体实施方式
参照图1,真空离子镀膜机,包括真空镀膜室1、安装在真空镀膜室1内的上转架2和连接在上转架2上的自转轴3,所述真空镀膜室1内设有滚珠机构4支撑上转架2。
参照图2,所述滚珠机构4包括固定在上转架2下方的承接架41,所述承接架41上面分布有滚珠5支撑上转架2,承接架41在真空镀膜室1内的固定方法有很多,如焊接、螺栓固定等,此处不再赘述。
滚珠5在承接架41上的固定方法有很多,本实用新型考虑到连接的方便有效,在所述承接架41上开设有若干圆槽,并将滚珠5放置于圆槽内支撑上转架2,这样的结构不但设置简易,并且有利于上转架2旋转时支撑的滚珠5的有效滚动。
而且,优选将滚珠5分布于承接架41上端一定距离的圆周上,这样均匀分布的滚珠可对上转架2起到很好的支撑、固定作用。
除此之外,参照图3,所述滚珠机构4还包括通过螺栓固定在真空镀膜室1内限制上转架2周向位置的固定轴组42,所述固定轴组42的外侧面与上转架2内侧面相抵。
作为更具体的实施方式,本实用新型的优选方案是,固定轴组42包括有:用螺栓固定在真空镀膜室1内的固定轴421,固定轴421下端设有凸起台阶,台阶上套置有轴套422,所述轴套422外侧面与上转架2内侧面相抵。
进一步,所述轴套422内设有滚珠6围绕固定轴421,此外,所述轴套422内滚珠6的上、下端设有承接滚珠6的上导套61、下导套62,为方便配合,所述上导套61、下导套62与滚珠6相接触面均设有凹槽。这样的结构使得整个固定轴组42完全取代了传统的轴与轴承,起到限位固定与旋转作用,并且,由于滚珠6组合的方式不需要润滑脂就能较好转动,而且还具有一定的膨胀裕度,相比轴承更适合于真空镀膜室的使用环境。
当然,上述的实施方式只是本实用新型的一种实施例,并不视为对本实用新型的保护范围限制,只要是通过滚珠机构4来支撑上转架2的真空离子镀膜机,均属于本实用新型的保护范围。
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