[实用新型]真空离子镀膜机

权利要求书

1、真空离子镀膜机，包括真空镀膜室(1)、安装在真空镀膜室(1)内的上转架(2)和连接在上转架(2)上的自转轴(3)，其特征在于：所述真空镀膜室(1)内设有支撑上转架(2)的滚珠机构(4)。

2、根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述滚珠机构(4)包括固定在上转架(2)下方的承接架(41)，所述承接架(41)上面分布有滚珠(5)支撑上转架(2)。

3、根据权利要求2所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述承接架(41)上开设有若干圆槽，滚珠(5)放置于圆槽内支撑上转架(2)。

4、根据权利要求3所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述滚珠(5)分布于承接架(41)上端一定距离的圆周上。

5、根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述滚珠机构(4)包括通过螺栓固定在真空镀膜室(1)内限制上转架(2)周向位置的固定轴组(42)，所述固定轴组(42)的外侧面与上转架(2)内侧面相抵。

6、根据权利要求5所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述固定轴组(42)包括用螺栓固定在真空镀膜室(1)内的固定轴(421)，固定轴(421)下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套(422)，所述轴套(422)外侧面与上转架(2)内侧面相抵。

7、根据权利要求6所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述轴套(422)内设有滚珠(6)围绕固定轴(421)。

8、根据权利要求7所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述轴套(422)内滚珠(6)的上、下端设有承接滚珠(6)的上、下导套(61、62)。

9、根据权利要求8所述的真空离子镀膜机，其特征在于：所述上、下导套(61、62)与滚珠(6)相接触面设有凹槽。