[实用新型]真空蒸镀机加磁基片固定装置无效
| 申请号： | 200820163668.8 | 申请日： | 2008-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN201278028Y | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 彭保进;应朝福;万旭;叶晶;刘蕴涛 | 申请（专利权）人： | 浙江师范大学 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;C23C14/24 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 | 代理人： | 程 皓 |
| 地址： | 321004浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 蒸镀机加磁基片 固定 装置 | ||
【权利要求书】：
1、一种真空蒸镀机加磁基片固定装置，其特征在于：它是个至少一端开口的柱状匣体，其两侧壁上设有与真空蒸镀机相连接的凸块，匣体的下侧内壁设有搁放基片的平面，相对应处开设有露出基片蒸镀面的开孔。
2、如权利要求1所述的真空蒸镀机加磁基片固定装置，其特征在于：所述的匣体空腔是分隔成并排三个的，露出基片蒸镀面的开孔位于中间的空腔。
3、如权利要求1或2所述的真空蒸镀机加磁基片固定装置，其特征在于：所述的匣体空腔左右两侧或匣体左右两侧空腔内还设有磁性块，搁放基片的平面和露出基片蒸镀面的开孔被设置在两磁性块中间。
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