[发明专利]镀膜用旋转溅射阴极装置有效
申请号: | 200810235989.9 | 申请日: | 2008-11-19 |
公开(公告)号: | CN101736297A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 赵子东 | 申请(专利权)人: | 苏州新爱可镀膜设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 张家港市高松专利事务所 32209 | 代理人: | 黄春松 |
地址: | 215625 江苏省张家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 旋转 溅射 阴极 装置 | ||
技术领域
本发明涉及到一种镀膜溅射装置,尤其涉及到一种镀膜用旋转溅射阴极装 置。
背景技术
目前生产镀膜玻璃的设备中大多采用平面溅射阴极靶材,其工作原理是: 将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内,真空镀膜室内通入一定量的高纯工艺气体 ---如氧气、氮气或氩气,在电磁场及游离电子的作用下工艺气体形成带正电的 等离子体,等离子体在载有高负电压的阴极的吸引下,在磁场的控制下,按照 一定的轨迹和力度轰击固定安装在真空镀膜室内的平面阴极靶材上的镀膜用材 料,镀膜材料被气体分子碰撞出来,按照一定方向沉积在玻璃上形成一定厚度 的膜层。上述平面溅射阴极靶材的缺点是:由于轰击轨道和靶材均是固定的, 因此使用一段时间后,平面溅射阴极靶材表面会形成跑道状溅射凹坑,不仅会 破坏镀膜层的均匀性,而且降低了靶材的利用率,需要经常更换靶材,十分麻 烦。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:将提供一种镀膜材料溅射均匀和靶材利用 率高的镀膜用旋转溅射阴极装置。
为解决上述问题,本发明采用的技术方案是:镀膜用旋转溅射阴极装置, 包括:安装在阴极圆管上的圆管状靶材,阴极圆管的两端分别连接有一个支承 座,其中一个支承座绝缘地活动支承在机架上,该支承座上设置有驱动轮和电 刷,电源通过电刷和支承座传导连接到阴极圆管上;在阴极圆管内部还绝缘支 承有中心支承管,中心支承管的底部设置有磁芯元件;另一个支承座活动支承 在绝缘套内,绝缘套安装在机架上;中心支承管与绝缘套、支承座及阴极圆管 之间构成一个密闭的空腔,绝缘套内壁上设置有密封凸块与中心支承管密封接 触,位于密封凸块外侧的中心支承管的端部设置有通孔,中心支承管的内腔通 过该通孔及绝缘套上的通孔与安装在机架上的进水管相通,密封凸块另一侧的 空腔通过绝缘套上的出水通孔与安装在机架上的出水管相通,在中心支承管的 另一端设置有出水孔,空腔通过该出水孔与中心支承管的内腔相通。
在上述的中心支承管上还设置有若干个导流叶片。
所述的磁芯元件安装在磁芯安装座中,磁芯安装座通过固定扣件安装在中 心支承管上。
在所述的磁芯元件与阴极圆管之间还设置有若干个支撑滚轮。
所述的磁芯元件的中间为N极,两侧布置着S极。
本发明的优点是:通过采用圆筒状的靶材,工作时使之转动,这样靶材在 被轰击的时候就不会形成凹坑,并且避免溅射氧化层的形成,提高靶材的利用 率,提高镀膜层的均匀性。
附图说明
图1是本发明所述的镀膜用旋转溅射阴极装置的结构示意图;
图2是图1中A部分的局部放大图;
图3是图1中B部分的局部放大图;
图4是图1中磁芯元件及磁芯安装座部分的C—C剖面结构图。
图中:1、阴极圆管,2、靶材,3、支承座,31、支承座,4、机架,5、 驱动轮,6、电刷,7、中心支承管,8、磁芯元件,9、绝缘套、10、空腔,11、 密封凸块,12、通孔,13、通孔,14、进水管,15、出水通孔,16、出水管, 17、出水孔,18、导流叶片,19、磁芯安装座,20、固定扣件,21、支撑滚轮, 22、绝缘件。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明所述的技术方案、及其工作原理和优 点作进一步的描述。
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