[发明专利]光学补偿膜、其制造方法及使用其的偏振片和液晶显示装置有效
申请号: | 200810211032.0 | 申请日: | 2008-08-20 |
公开(公告)号: | CN101373295A | 公开(公告)日: | 2009-02-25 |
发明(设计)人: | 中村和浩;山口智彦 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G02F1/13363 | 分类号: | G02F1/13363;G02B5/30;G02F1/1337;B08B3/12 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 补偿 制造 方法 使用 偏振 液晶 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及光学补偿膜、其制造方法以及使用了该光学补偿膜的偏振 片和液晶显示装置。
背景技术
一直以来,作为液晶显示装置的光学补偿膜,提出了各种以聚合物膜 为支撑体、并在支撑体上具有由液晶组合物形成的光学各向异性层的光学 补偿膜。而且,作为耐久性有所改善的光学补偿膜,还提出了具有光弹性 系数和透湿度在规定范围内的聚合物膜作为支撑体的光学补偿膜(例如专 利文献1),记载了可以利用环状聚烯烃系聚合物膜作为支撑体。
在制作具有由液晶组合物形成的光学各向异性层的光学补偿膜时,一 般是在聚合物膜的表面上形成取向膜,利用该取向膜的取向控制能力来形 成光学各向异性层。即,一般来说是在作为支撑体的聚合物膜与光学各向 异性层之间形成取向膜。从与光学各向异性层的粘附性、支撑体不会受到 损伤的程度的低温下的制膜性、在不会溶解支撑体的涂覆溶剂中的溶解性 等观点出发,在该取向膜中利用聚乙烯醇等亲水性较高的聚合物,因此在 疏水性较高的环状聚烯烃系聚合物膜中多与取向膜的粘附性低。
另外,为了改善粘附性,还提出了在聚合物膜和取向膜之间形成粘附 改良层的光学补偿片材(例如专利文献2)。
专利文献1:特表2005-520209号公报
专利文献2:特开平7-333433号公报
发明内容
本发明的目的在于提供在具有环状聚烯烃类聚合物膜作为支撑体的光 学补偿膜中,改善支撑体与取向膜的粘接性、耐久性优异的光学补偿片材, 以及使用其的偏振片和液晶显示装置。
解决上述问题的方法如下所述。
[1]一种光学补偿膜,其依次具有支撑体、取向膜和由液晶组合物形成 的光学各向异性层,其特征在于,所述支撑体由含有环状聚烯烃类的至少1 种作为主成分的环状聚烯烃系聚合物膜形成,且具有实施过电晕放电处理 或大气压等离子体处理的处理面,所述环状聚烯烃类具有含环状脂肪族环 的重复单元;所述取向膜与所述支撑体的所述处理面相接触地配置;所述 液晶组合物含有自由基聚合引发剂,该自由基聚合引发剂产生卤素自由基 或除去氢原子以外的原子数为8以下的烃自由基;并且,所述光学各向异 性层为在所述取向膜上将所述液晶组合物通过聚合来固化而形成的层。
[2]根据[1]所述的光学补偿膜,其特征在于,所述取向膜的溶胀度为 1~2,其中,该溶胀度的定义是:在溶解形成取向膜时所用的涂覆组合物 的溶剂中以最高含有率含有的溶剂中浸渍光学补偿膜前后的取向膜的膜厚 之比((膨润后的取向膜膜厚)÷(膨润前的取向膜膜厚))。
[3]根据[1]或[2]所述的光学补偿膜,其特征在于,所述取向膜是通过 在加热下对涂覆在所述支撑体的所述处理面上的固化性组合物照射电离放 射线使其固化而形成的层。
[4]根据[1]~[3]任一项所述的光学补偿膜,其特征在于,所述环状聚烯 烃系聚合物膜含有环状聚烯烃类作为主成分,所述环状聚烯烃类具有含环 状脂肪族环的重复单元,所述环状脂肪族环具有至少1个含杂原子的取代 基。
[5]根据[1]~[4]任一项所述的光学补偿膜,其特征在于,所述自由基聚 合引发剂含有下述通式(1)所示的化合物中的至少1种。
式中,X表示卤原子;Y表示-CX3、-NH2、-NHR’、-NR’2或- OR’;R’表示烷基或芳基;R表示-CX3、烷基、取代烷基、芳基、取代芳 基或取代链烯基。
[6]根据[1]~[5]任一项所述的光学补偿膜,其特征在于,所述液晶组合 物含有至少1种盘状液晶化合物。
[7]根据[1]~[5]任一项所述的光学补偿膜,其特征在于,所述液晶组合 物含有至少1种棒状液晶化合物。
[8]一种偏振片,其至少具有偏振膜和[1]~[7]任一项所述的光学补偿 膜。
[9]一种液晶显示装置,其具有至少1个[8]所述的偏振片。
[10]根据[9]所述的液晶显示装置,其特征在于,其为TN模式或OCB 模式。
[11]一种光学补偿膜的制造方法,该光学补偿膜依次具有由环状聚烯 烃系聚合物膜形成的支撑体、在支撑体上的取向膜和由液晶组合物形成的 光学各向异性层,所述制造方法的特征在于,依次包括下述工序:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810211032.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种新型低压开关柜
- 下一篇:城市轨道交通信号系统中列车位置的动态跟踪装置