[发明专利]光学补偿膜、其制造方法及使用其的偏振片和液晶显示装置

权利要求书

1.一种光学补偿膜，其依次具有支撑体、取向膜和由液晶组合物形成 的光学各向异性层，其特征在于，所述支撑体由含有环状聚烯烃类的至少1 种作为主成分的环状聚烯烃系聚合物膜形成，且具有实施过电晕放电处理 或大气压等离子体处理的处理面，所述环状聚烯烃类具有含环状脂肪族环 的重复单元；所述取向膜与所述支撑体的所述处理面相接触地配置；所述 液晶组合物含有自由基聚合引发剂，该自由基聚合引发剂产生卤素自由基 或除去氢原子以外的原子数为8以下的烃自由基；并且，所述光学各向异 性层为在所述取向膜上将所述液晶组合物通过聚合来固化而形成的层；所 述取向膜的溶胀度为1～2，其中，该溶胀度的定义是：在溶解形成取向膜 时所用的涂覆组合物的溶剂中以最高含有率含有的溶剂中浸渍光学补偿膜 前后的取向膜的膜厚之比，即(膨润后的取向膜膜厚)÷(膨润前的取向膜 膜厚)。

2.根据权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于，所述取向膜是通 过在加热下对涂覆于所述支撑体的所述处理面上的固化性组合物照射电离 放射线使其固化而形成的层。

3.根据权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于，所述环状聚烯烃 系聚合物膜含有环状聚烯烃类作为主成分，所述环状聚烯烃类具有含环状 脂肪族环的重复单元，所述环状脂肪族环具有至少1个含杂原子的取代基。

4.根据权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于，所述自由基聚合 引发剂含有下述通式(1)所示的化合物的至少1种，

式中，X表示卤原子；Y表示-CX₃、-NH₂、-NHR’、-NR’₂或- OR’；R’表示烷基或芳基；R表示-CX₃、烷基、取代烷基、芳基、取代芳 基或取代链烯基。

5.根据权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于，所述液晶组合物 含有至少1种盘状液晶化合物。

6.根据权利要求1所述的光学补偿膜，其特征在于，所述液晶组合物 含有至少1种棒状液晶化合物。

7.一种偏振片，其至少具有偏振膜和权利要求1～6任一项所述的光学 补偿膜。

8.一种液晶显示装置，其具有至少1个权利要求7所述的偏振片。

9.根据权利要求8所述的液晶显示装置，其特征在于，其为TN模式 或OCB模式。

10.一种光学补偿膜的制造方法，所述光学补偿膜依次具有由环状聚烯 烃系聚合物膜形成的支撑体、在支撑体上的取向膜和由液晶组合物形成的 光学各向异性层，所述制造方法的特征在于，依次包括下述工序：

(1)对含有环状聚烯烃类作为主成分的环状聚烯烃系聚合物膜的表面 实施电晕放电处理或大气压等离子体处理的工序，所述环状聚烯烃类具有 含环状脂肪族环的重复单元；

(2)在环状聚烯烃系聚合物膜的经电晕放电处理或大气压等离子体处 理的处理面上形成取向膜的工序；

(3)将含有自由基聚合引发剂的液晶组合物进行聚合而固化，从而在 所述取向膜上形成光学各向异性层的工序，所述自由基聚合引发剂产生卤 素自由基或除去氢原子以外的原子数为8以下的烃自由基，

其中，所述取向膜的溶胀度为1～2，该溶胀度的定义是：在溶解形成 取向膜时所用的涂覆组合物的溶剂中以最高含有率含有的溶剂中浸渍光学 补偿膜前后的取向膜的膜厚之比，即(膨润后的取向膜膜厚)÷(膨润前的 取向膜膜厚)。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述(2)的工序为下 述工序：在环状聚烯烃系聚合物膜的经电晕放电处理或大气压等离子体处 理的处理面上涂覆固化性组合物，并在加热下照射电离放射线，从而使其 固化，形成取向膜。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述(2)工序之前， 对环状聚烯烃系聚合物膜的经电晕放电处理或大气压等离子体处理的处理 面进行除尘。