[发明专利]光学记录装置、以及光学记录和再现装置有效

专利信息
申请号: 200810183822.2 申请日: 2008-12-09
公开(公告)号: CN101520636A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 三锅治郎;小笠原康裕 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G03H1/22;G11B7/0065;G11B7/135
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 记录 装置 以及 再现
【说明书】:

技术领域

发明涉及光学记录装置、以及光学记录和再现装置。

背景技术

近来,作为全息存储器记录和再现方法,已经提出了同轴记录方法 (共线方法),其优势在于,和常规的二光束干涉方法相比,其光学系统 可以明显简化,它能够抵抗诸如振动的外部干扰,并且容易引入伺服机 构。在该共线方法中,同一透镜按相同光轴对由空间光调制器调制并产 生的信号光和参考光进行集光,并且将由信号光和参考光之间的干涉形 成的干涉条纹(衍射光栅)作为全息图记录在光学记录介质上。将其中 对数字数据进行了二维编码的信号光图案显示在空间光调制器上,由此 将数字数据叠加在信号光上。

用作为读取光的参考光照射记录有全息图的光学记录介质,由此从 记录的全息图再现信号光。从这个再现的信号光,可以解码出叠加的数 字数据。然而,在常规共线方法中,因为信号光和参考光在相同的光轴 上,所以当在再现过程中用作为读取光的参考光照射光学记录介质时, 光泄漏到空间光调制器的对应于信号光的区域。例如,当被设置为透射 型空间光调制器的液晶元件的精度较低时,透过处于信号光图案的显示 位置的OFF像素的光成为泄漏光。因此,当以这种方式用光照射空间光 调制器的所有像素时,光电检测器检测到该泄漏光,产生对于再现信号 光的噪声,再现特性恶化。

在日本特开(JP-A)2006-301465号公报中描述的金息图记录和再现 装置中,在空间光调制器的光出射侧设置有如下的光控制元件:该光控 制元件在记录过程中透射入射光,而在再现过程中遮蔽入射光的对应于 信号光的区域的光。在再现过程中,用光照射空间光调制器的所有像素, 但是因为该光控制元件,消除了对应于信号光的区域中存在的泄漏光, 从而改善了再现特性。作为光控制装置,使用部分偏光滤光器等。

发明内容

根据本发明的第一方面,一种光学记录装置包括光源、空间光调制 器、校正光学系统以及光引导部。所述光源发射相干光。所述空间光调 制器由二维排列的多个像素形成,包括如下的信号光区域和参考光区域: 所述信号光区域在产生信号光时显示信号光图案,所述参考光区域被布 置为环绕所述信号光区域并且在产生与信号光同轴的参考光时显示参考 光图案,并且所述空间光调制器根据显示图案针对各个像素调制并输出 入射光。所述校正光学系统被布置在所述光源和所述空间光调制器之间, 并且包括一对轴锥透镜(axicon lens),这一对轴锥透镜对从所述光源发 射的光进行校正以使其在所述空间光调制器的被照射面上的光强度分布 平坦。所述光引导部将由所述校正光学系统进行了校正的光引导到所述 空间光调制器。所述空间光调制器产生的信号光和参考光同时照射到光 学记录介质,将全息图记录到该光学记录介质中。

根据本发明的第二方面,所述光学记录装置还包括掩模,所述掩模 布置在所述光源和所述校正光学系统之间,并且包括遮蔽光轴附近的光 的遮蔽部。

根据本发明的第三方面,形成所述校正光学系统的所述一对轴锥透 镜被布置为使其圆锥面彼此面对,并且被布置为彼此隔开在以下表达式 中定义的距离L:

其中,距离L是轴锥透镜之间的光程长度的光轴分量距离,代表 轴锥透镜的顶角的角度,D代表入射光的光束直径,θ代表由轴锥透镜产 生的折射角,n代表轴锥透镜的折射率,空气中的折射率是1。

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