[发明专利]光学记录装置、以及光学记录和再现装置有效

专利信息
申请号: 200810183822.2 申请日: 2008-12-09
公开(公告)号: CN101520636A 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 三锅治郎;小笠原康裕 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04;G03H1/22;G11B7/0065;G11B7/135
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李 辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 记录 装置 以及 再现
【权利要求书】:

1.一种光学记录装置,该光学记录装置包括:

光源,其发射相干光;

空间光调制器,其由二维排列的多个像素形成,包括信号光区域和 参考光区域,所述信号光区域在产生信号光时显示信号光图案,所述参 考光区域被布置为环绕所述信号光区域并在产生与所述信号光同轴的参 考光时显示参考光图案,并且,所述空间光调制器根据显示图案针对各 个像素调制并输出入射光;

校正光学系统,其被布置在所述光源和所述空间光调制器之间,并 且包括一对轴锥透镜,这一对轴锥透镜对从所述光源发射的光进行校正 以使其在所述空间光调制器的被照射面上的光强度分布平坦;以及

光引导部,其将由所述校正光学系统进行了校正的光引导到所述空 间光调制器,

其中,所述空间光调制器产生的信号光和参考光同时照射到光学记 录介质上,在所述光学记录介质中记录全息图,

其中,形成所述校正光学系统的所述一对轴锥透镜被布置为使其圆 锥面彼此面对,并且轴锥透镜之间的光程长度的光轴分量距离L由以下 表达式定义:

其中,代表轴锥透镜的顶角的角度,D代表入射到所述校正光学系 统的入射光的光束直径,n代表轴锥透镜的折射率,在空气中的折射率是 1。

2.根据权利要求1所述的光学记录装置,该光学记录装置还包括掩 模,所述掩模布置在所述光源和所述校正光学系统之间,并包括遮蔽光 轴附近的光的遮蔽部。

3.一种光学记录和再现装置,该光学记录和再现装置包括:

光源,其发射相干光;

空间光调制器,其由二维排列的多个像素形成,包括信号光区域和 参考光区域,所述信号光区域在产生信号光时显示信号光图案,所述参 考光区域被布置为环绕所述信号光区域并在产生与所述信号光同轴的参 考光时显示参考光图案,并且,所述空间光调制器根据显示图案针对各 个像素调制并输出入射光;

光阑机构,其布置在所述光源和所述空间光调制器之间,并且包括 一开口部,所述开口部的直径在再现过程中收缩以限制穿过该开口部的 光的光束直径;

校正光学系统,其被布置在所述光阑机构和所述空间光调制器之间, 包括被布置为使其圆锥面彼此面对的一对轴锥透镜,并且,所述校正光 学系统在记录过程中对穿过所述光阑机构中的所述开口部的光进行校正 以使其在所述空间光调制器的被照射面上的光强度分布平坦,并在再现 过程中对穿过所述光阑机构中的所述开口部的光进行校正以由此来照射 所述空间光调制器的除所述信号光区域之外的区域;以及

光引导部,其将由所述校正光学系统进行了校正的光引导到所述空 间光调制器,

其中,在记录过程中,所述空间光调制器产生的信号光和参考光照 射到光学记录介质上,在所述光学记录介质中记录全息图,并且,

在再现过程中,将所述空间光调制器产生的参考光照射到其上记录 了所述全息图的所述光学记录介质上,再现信号光,

其中,形成所述校正光学系统的所述一对轴锥透镜被布置为使其圆 锥面彼此面对,并且轴锥透镜之间的光程长度的光轴分量距离L由以下 表达式定义:

其中,代表轴锥透镜的顶角的角度,D代表入射到所述校正光学系 统的入射光的光束直径,n代表轴锥透镜的折射率,在空气中的折射率是 1。

4.根据权利要求3所述的光学记录和再现装置,该光学记录和再现 装置还包括掩模,所述掩模布置在所述光源和所述校正光学系统之间, 并包括遮蔽光轴附近的光的遮蔽部。

5.根据权利要求3或4所述的光学记录和再现装置,其中,

在再现过程中,所述校正光学系统将穿过所述光阑机构中的所述开 口部的光校正为与所述空间光调制器的所述参考光区域的形状相对应的 环形光,并且

所述光引导部在调整由所述校正光学系统产生的所述环形光的光路 的同时将该光引导到所述空间光调制器的所述参考光区域。

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