[发明专利]降低水中二氧化硅的方法

说明书

技术领域

本发明是涉及一种水回收处理的方法，且特别是涉及一种降低二氧化硅 的方法。

背景技术

随着工业的蓬勃发展，对于水资源的需求大量提高，建立经济有效的水 回收处理系统是极为重要的。目前商业上最常用的水回收处理系统大多为逆渗 透或电透析的方法，然而当水中的二氧化硅含量过高时，使用逆渗透法时，二 氧化硅易于薄膜表面形成难以去除的结垢物，而使用电透析法时，又因为二氧 化硅在中性pH时几乎不带电荷，因此同样无法有效去除二氧化硅。为了解决 上述问题，势必需要一前处理方法，有效降低水中的二氧化硅含量。

中国台湾专利公开号200604108提出二氧化硅去除装置与二氧化硅去除 方法，其使用一种简单的装置，从逆渗透膜浓缩水将二氧化硅去除至饱和浓度 以下，在有效防止逆渗透透膜浓缩水循环的二氧化硅剥落发生的同时，可以将 原水的全部量可作为逆渗透膜透过水。

中国台湾专利00585843提供一种硅石系积垢的防止方法及防止装置， 其将冷却循环水通过填装1μm～10mm硅胶粒，由此去除水中的二氧化硅。

德国专利DE3940464提出一种降低海水的二氧化硅的方法，通过控制 碱剂用量，使其pH值小于9，生成碳酸钙与硅酸盐的沉淀物，但不产生氢氧 化镁的沉淀物。

美国专利US4276180提出一种降低工业废水的二氧化硅的方法，其通 过活性铝选择性地移除二氧化硅。

目前去除二氧化硅的方法有石灰软化法、阴离子交换树脂法、硅胶吸附 法等，然而上述方法都有其应用的限制，无法被业界所采用。因此，业界亟需 发展一种能有效降低水中二氧化硅的方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能有效降低水中二氧化硅的方法，该方法基 本上克服了现有技术的局限性。

本发明提供一种降低水中二氧化硅的方法，包括下列步骤：将含有二氧 化硅、镁离子与钙离子的原水导入一含担体的膨胀床反应槽内；添加一碱性溶 液到该膨胀床反应槽内，使该膨胀床反应槽内的pH值约为11～13，其中该担 体上形成一盐类结晶；以及将该膨胀床反应槽的流出水导入一后续处理系统。

通过本发明的方法，可有效降低水中二氧化硅的含量，使二氧化硅的去 除率约大于50％，同时也能有效降低水中钙离子与镁离子的含量。

附图说明

图1为一实施例的示意图，用以说明本发明的降低水中二氧化硅的方法。

图2为另一实施例的示意图，用以说明本发明的降低水中二氧化硅的方 法。

其中，主要组件符号说明：

12～原水                     14～液碱

16～担体                     18～流出水

22～原水                     24～液碱

26～含碳酸根的溶液           28～担体

30～流出水                   102～原水槽

104～碱液槽                  106～膨胀床反应槽

202～原水槽                  204～碱液槽

206～含碳酸根的药液槽        208～膨胀床反应槽

具体实施方式

为让本发明的上述和其它目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举 出较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下：

本发明提供一种降低水中二氧化硅的方法，包括下述步骤，请参见图1， 将含有二氧化硅、镁离子与钙离子的原水12导入一含有担体16的膨胀床反应 槽106内，其中原水是来自于冷却循环水，原水中二氧化硅的浓度约大于10 mg/L，而镁离子与二氧化硅的摩尔比≥1，钙离子与二氧化硅的摩尔比≥0.67。 而膨胀床反应槽106的担体16包括石英砂、砖粉、活性碳或上述的组合，其 粒径大小约为0.1～1mm，较佳范围约为0.2～0.5mm，其作用在于提供载体位 置，让后续的盐类于此处形成结晶。