[发明专利]降低水中二氧化硅的方法有效
| 申请号： | 200810177687.0 | 申请日： | 2008-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN101734777A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 梁德明;李茂松;廖启钟;彭淑惠;陈致君 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | C02F1/58 | 分类号： | C02F1/58 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 陈红;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 降低 水中 二氧化硅 方法 | ||
1.一种降低水中二氧化硅的方法，包括下列步骤：
将含有二氧化硅、镁离子与钙离子的原水导入一含担体的膨胀床反应槽 内；
添加一碱性溶液到该膨胀床反应槽内，使该膨胀床反应槽内的pH值为 11～13，其中该担体上形成一盐类结晶或者氢氧化镁沉淀；以及
将该膨胀床反应槽的流出水导入一后续处理系统。
2.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该盐类结晶为 硅酸镁、硅酸钙、碳酸钙或上述的组合。
3.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该膨胀床反应 槽的担体为石英砂、砖粉、活性碳或上述的组合。
4.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该膨胀床反应 槽的担体粒径大小为0.1～1mm。
5.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该膨胀床反应 槽内的温度为20～35℃。
6.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该后续处理系 统为电透析、或逆渗透。
7.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该后续处理系 统为倒极式电透析。
8.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该碱性溶液为 氢氧化钠溶液或氢氧化钾溶液。
9.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，还包括将该盐类结 晶排出，再补充该担体加入该膨胀床反应槽内。
10.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，还包括：添加一含 碳酸根的溶液导入到该膨胀床反应槽内。
11.根据权利要求10所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该含碳酸根 的溶液为碳酸钠溶液或碳酸氢钠溶液。
12.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该原水的二氧 化硅浓度大于10mg/L。
13.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该流出水的二 氧化硅去除率大于50％。
14.根据权利要求1所述的降低水中二氧化硅的方法，其中该原水是来自 于冷却循环水。
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