[发明专利]磁记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种磁记录介质，其特征在于包括：

多个记录区，其中形成与伺服信号和记录磁道相对应的凸起，并包含晶体磁性层(53)；以及

多个非记录区，其中包含保留在各所述记录区之间的凹陷的底部的非晶损伤层(55)。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于，所述记录区包含所述晶体磁性层(53)和层叠在其上的顶部盖层(54)，所述非记录区中的非晶损伤层(55)的表面所在的位置比所述顶部盖层(54)的厚度更深。

3.根据权利要求2所述的磁记录介质，其特征在于，所述晶体磁性层(53)包含氧化物，并且所述顶部盖层(54)所具有的氧化物含量低于所述晶体磁性层(53)的氧化物含量。

4.根据权利要求2所述的磁记录介质，其特征在于，所述晶体磁性层(53)包含Co、Cr和Pt，所述顶部盖层(54)的Pt含量低于所述晶体磁性层(53)的Pt含量。

5.根据权利要求2所述的磁记录介质，其特征在于，所述晶体磁性层(53)包含Co、Cr和Pt，所述顶部盖层(54)的Cr含量高于所述晶体磁性层(53)的Cr含量。

6.根据权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于还包括填充在所述非晶损伤层(55)之上的凹陷中的非磁性嵌入层(56)。

7.一种磁记录介质的制造方法，其特征在于包括：

在基底(51)上沉积晶体磁性层(53)；

选择性刻蚀与非记录区相对应的一部分所述晶体磁性层(53)，以在所述非记录区中形成凹陷，其中在所述凹陷的底部剩有一部分所述晶体磁性层(53)，并且形成凸起的记录区；以及

对在所述非记录区中的凹陷的底部所剩下的晶体磁性层(53)进行损伤，以形成非晶损伤层(55)。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在基底(51)上层叠有所述晶体磁性层(53)和顶部盖层(54)，在进行与所述非记录区相对应的选择性刻蚀的过程中，所述顶部盖层(54)在其整个厚度的范围内被完全去掉，并且所述晶体磁性层(53)在其厚度方向上被部分地去掉。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于还包括，采用非磁性嵌入层(56)来填充所述非晶损伤层(55)之上的凹陷。