[发明专利]印刷电路板的制造方法以及使用该方法获得的具备灌封围坝的印刷电路板无效
| 申请号: | 200810089714.9 | 申请日: | 2008-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN101315897A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
| 发明(设计)人: | 佐藤正弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社麦尔提 |
| 主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/498 |
| 代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄威;张彬 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 印刷 电路板 制造 方法 以及 使用 获得 具备 灌封围坝 | ||
1、一种具备灌封围坝的印刷电路板的制造方法,其特征在于,包括以下的工序A~工序D:
工序A:准备具有布线图的基板的工序;
工序B:在所述基板中具备布线图的面上,设置树脂层的工序;
工序C:对所述树脂层进行加热使其流动,并使用设有型模的冲压板使树脂层变形为灌封围坝形状的工序;
工序D:拆下设有型模的冲压板,使具备变形为灌封围坝形状的部位的树脂层露出的工序。
2、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序A的基板是具有安装电子器件的端子形状布线图的基板。
3、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序B的树脂层是用半固化状态的热固性树脂形成的层。
4、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序B的树脂层是使用由半固化状态的热固性树脂构成的树脂薄板所形成的层。
5、如权利要求4所述的印刷电路板的制造方法,其中,为了避免在不需要形成树脂层的部位形成树脂层,所述树脂薄板使用在规定部位具有开口部的附带开口部的树脂薄板。
6、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序B的树脂层是由具备复合层的树脂薄板所形成的树脂层,且所述复合层由热塑性树脂或半固化状态的热固性树脂形成的层和粘合树脂薄板层构成。
7、如权利要求6所述的印刷电路板的制造方法,其中,为了避免在不需要形成树脂层的部位形成树脂层,所述树脂薄板使用在规定部位具有开口部的附带开口部的树脂薄板。
8、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序C中所用的设有型模的冲压板,使用具备用于形成灌封围坝形状的凹部的金属板或陶瓷板。
9、如权利要求8所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述用于形成灌封围坝形状的凹部是用化学蚀刻或物理蚀刻加工形成的。
10、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序C中所用的设有型模的冲压板,其在由金属层或陶瓷层与塑料层粘接成的复合材料的该金属层或陶瓷层一侧,形成有用于形成所述突出的灌封围坝形状的凹部。
11、如权利要求10所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述用于形成灌封围坝形状的凹部是用化学蚀刻或物理蚀刻加工形成的。
12、如权利要求1所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序C中所用的设有型模的冲压板,其表面具有脱模层。
13、一种印刷电路板的制造方法,其在权利要求1所述的印刷电路板的制造方法中进一步包括下述工序E:
工序E:将树脂层的不需要部分去除,只保留必要部位的树脂层,从而获得具备灌封围坝的印刷电路板的工序。
14、如权利要求13所述的印刷电路板的制造方法,其中,对所述工序E中对树脂层的不需要部分的去除,使用化学方法将不需要部分的树脂去除。
15、如权利要求13所述的印刷电路板的制造方法,其中,所述工序E中对树脂层的不需要部分的去除,是向不需要部分的树脂层照射激光而进行去除的。
16、一种具备灌封围坝的印刷电路板,是使用权利要求1所述的印刷电路板的制造方法获得的。
17、一种具备灌封围坝的印刷电路板,是使用权利要求13所述的印刷电路板的制造方法获得的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社麦尔提,未经株式会社麦尔提许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810089714.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:轻质木塑复合板材的生产方法
- 下一篇:一种随机存储器实现不同配置的方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





