[发明专利]1,4-双(二氟溴甲基)四氟苯及其制备方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种不含氢原子的全卤素芳香族化合物及其制备方法， 尤其是指一种1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯 (1，4-Bis(bromodifluoromethyl)tetrafluorobenzene，BFTFB)以及一种高产率 的制备高纯度1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯的方法。

背景技术

含卤素芳香族化合物(halogen-containing aromatic compound)，尤其是 键结有二氟烷基(difluoroalkyl group)或二氟溴烷基(bromodifluoroalkyl group)的含氟芳香族化合物，具有优异的耐热、耐化学药剂、防水、低介 电、及低反射等特性。

目前，市售的含氟芳香族化合物中，聚(四氟-对二甲 苯)(Poly(tetrafluoro-p-xylene))，如下式(1)所示，因为具有优异的加工性而 被广泛应用于电子和涂料工业的介电薄膜。经过聚(四氟-对二甲苯)涂覆后 的产品，都具有很好的防蚀、防潮、绝缘保护性能，而且具有超薄、透明、 无针孔等优点。

1，4-双(二氟溴甲基)苯(1，4-Bis(bromodifluoromethyl)benzene，BFB)， 如下式(2)所示，为制备聚(四氟-对二甲苯)的重要前驱物。

BFB的主要合成路径为由α，α，α’，α’-四氟-对二甲苯(α，α，α’，α’ tetrafluoro-p-xylene，TFPX)与溴化剂N-溴代丁二酰亚胺 (N-Bromosuccinimide，NBS)作用而获得BFB。目前，BFB的主要合成方法， 是将TFPX与NBS溶于CCl₄溶剂中，以UV灯照射回流反应，可获得产率50 至80％的BFB。另外，也可以利用溴(Br₂)为溴化剂进行TFPX溴化反应，同 样可获得BFB，例如于80℃反应温度下分次添加溴，并以390至500nm可见 光波长的光源照射。

由于含氟聚对二甲苯此类化合物的介电常数会随着分子中氟原子的 含量增加而降低，因此可预期以完全不含氢原子的目标物1，4-双(二氟溴甲 基)四氟苯(1，4-Bis(bromodifluoromethyl)tetrafluorobenzene，BFTFB)作为前 驱物，所聚合而成的含氟聚对二甲苯预测将具有更低的介电常数。

目标物1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯 (1，4-Bis(bromodifluoromethyl)tetrafluorobenzene，BFTFB)的制作方法拟仿 BFB合成方法，以1，4-双(二氟甲基)四氟苯(DFMTFB)为起始原料进行溴化 反应。

然而，上述仿照BFB的合成方法具有下列缺点：(1)溴化剂NBS存在高 温分解缺点，因此以NBS进行溴化反应的反应温度必须低于NBS本身的分 解温度，故仅适合温度100℃以下的反应条件；(2)溴本身沸点低(59℃)，在 80℃的回流反应温度下极易流失，故反应所需的溴总量高达反应理论需求 当量数倍以上，80℃以上的反应条件更是存在高度困难性；以及(3)溴具有 强腐蚀性，一般聚合物材质或金属材质均无法耐溴腐蚀，反应器材仅有少 数选择。

而且，因原料1，4-双(二氟甲基)四氟苯 (1，4-Bis(difluoromethyl)tetrafluorobenzene，DFMTFB)苯环上键结四个强阴 电性氟原子，致原料化性极为安定，以上述传统溴化反应条件无法将原料 溴化，预估需提供更高能量的高温反应条件方有机会制得1，4-双(二氟溴甲 基)四氟苯(BFTFB)目标产物。

发明内容

本发明的目的在于提供一种1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯及其制备方 法。

为实现上述目的，本发明提供的不含氢原子的全卤素芳香族化合物， 1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯(BFTFB)，其结构如下式(3)所示：

另外，本发明亦提供制备1，4-双(二氟溴甲基)四氟苯(BFTFB)的方法， 其反应式如下式(I)所示：