[发明专利]在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法

权利要求书

1.一种在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)在装备了恒温加热系统的容器中装入电解液，并将电解液加热到30～95℃恒温。

(2)将铂作为阳极均匀分布在容器四周，金属植入体作为阴极置于容器中间，完全浸没在电解液中，两极之间加直流电压2～4V，金属植入体表面发生阴极还原反应，pH值升高，羟基磷灰石过饱和度增加，从而结晶在钛金属表面。

(3)经过0.5～5小时沉积后，在植入体表面即可形成一层与基体金属结合优良的、薄的羟基磷灰石颗粒薄涂层。

(4)取出清洗，去除表面附着的电解液，在60～100℃的干燥箱中干燥。

2.根据权利要求1所述的在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法，其特征在于，所述电解液成份由Hap构成元素、添加剂和导电剂三部分组成，其pH值为5～12。

3.根据权利要求2所述的在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法，其特征在于，所述Hap构成元素为Ca²⁺和PO₄^3-，它们的浓度分别为0.3～6.0mM/L和0.18～3.6mM/L，且Ca²⁺/PO₄^3-＝1.67。

4.根据权利要求2所述的在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法，其特征在于，所述添加剂为柠檬酸盐C₆H₅O₇^3-，其浓度为0.3～60mM/L，且C₆H₅O₇^3-/Ca²⁺＝1～10。

5.根据权利要求2所述的在金属植入体表面制备羟基磷灰石颗粒薄涂层的电化学方法，其特征在于，所述导电剂为乳酸盐C₃H₅O₃^-、硝酸盐NO₃^-或醋酸盐CH₃COO^-，浓度为0.01～1M/L。